拋光時(shí)間。要得到好的拋光效果，就需要花費(fèi)一定的時(shí)間。若拋光時(shí)間太短，只能獲得沒(méi)有光澤的梨皮狀表面。若時(shí)間過(guò)長(zhǎng)，不僅溶解損失增大，而且加工表面會(huì)出現(xiàn)污點(diǎn)或斑點(diǎn)。因此存在著一個(gè)適當(dāng)?shù)臅r(shí)間范圍，它受材料、拋光液的組成及拋光溫度等因素的影響，通常難以預(yù)測(cè)，除用實(shí)驗(yàn)測(cè)定外，沒(méi)有其他方法?；瘜W(xué)拋光中往往產(chǎn)生氫氣，這是拋光具有氫脆敏感性材料時(shí)必須注意的問(wèn)題。另外，拋光液溫度高達(dá)100～200℃時(shí)，還會(huì)產(chǎn)生退火作用。為了把氫脆和退火作用的影響減小到，就必須在適宜的溫度范圍內(nèi)選擇盡可能短的拋光時(shí)間。

鋁合金產(chǎn)品傳統(tǒng)的三酸拋光的化學(xué)工藝配方為：磷酸80%，硫酸10%，10%。目前磷酸的價(jià)格為5400元/噸，硫酸700元/噸，2300元/噸（以上價(jià)格僅作為參考）。那么我們傳統(tǒng)的配方成本為：磷酸800ml*1.70*5.40=7.344元，硫酸100ml*1.84*0.7=0.13元，100ml*1.40*2.30=0.32元，那么一升拋光液合計(jì)的成本為7.8元。目前我公司研制成功的OY系列鋁處理化學(xué)拋光工藝，磷酸為500ml/l,硫酸500ml/l,光亮劑20ml/l, 成本核算為：500ml*1.70*5.40=4.59元；硫酸500*1.84*0.7=0.644;光亮劑計(jì)0.65元，合計(jì)5.85元。因此，我公司OY系列鋁處理工藝，成本足足下降了20%。而且OY系列產(chǎn)品在處理鋁的時(shí)候,無(wú)任何黃煙，大大的改善了生產(chǎn)環(huán)境；處理成品率可以在到98%以上，幾乎無(wú)因?yàn)閽伖舛斐傻膱?bào)廢品；光亮度好，與三酸處理無(wú)異；維護(hù)管理容易，溶液性能穩(wěn)定。因此，我公司極力推薦使用本產(chǎn)品。

依據(jù)機(jī)械加工原理、半導(dǎo)體材料工程學(xué)、物力化學(xué)多相反應(yīng)多相催化理論、表面工程學(xué)、半導(dǎo)體化學(xué)基礎(chǔ)理論等，對(duì)硅單晶片化學(xué)機(jī)械拋光（CMP）機(jī)理、動(dòng)力學(xué)控制過(guò)程和影響因素研究標(biāo)明，化學(xué)機(jī)械拋光是一個(gè)復(fù)雜的多相反應(yīng)，它存在著兩個(gè)動(dòng)力學(xué)過(guò)程：（1）拋光首先使吸附在拋光布上的拋光液中的氧化劑、催化劑等與襯底片表面的硅原子在表面進(jìn)行氧化還原的動(dòng)力學(xué)過(guò)程。這是化學(xué)反應(yīng)的主體。（2）拋光表面反應(yīng)物脫離硅單晶表面，即解吸過(guò)程使未反應(yīng)的硅單晶重新出來(lái)的動(dòng)力學(xué)過(guò)程。它是控制拋光速率的另一個(gè)重要過(guò)程。硅片的化學(xué)機(jī)械拋光過(guò)程是以化學(xué)反應(yīng)為主的機(jī)械拋光過(guò)程，要獲得質(zhì)量好的拋光片，必須使拋光過(guò)程中的化學(xué)腐蝕作用與機(jī)械磨削作用達(dá)到一種平衡。如果化學(xué)腐蝕作用大于機(jī)械拋光作用，則拋光片表面產(chǎn)生腐蝕坑、桔皮狀波紋。如果機(jī)械磨削作用大于化學(xué)腐蝕作用，則表面產(chǎn)生高損傷層。