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微弧氧化技術(shù) 參數(shù)產(chǎn)品介紹「多圖」

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發(fā)布時(shí)間:2020-07-27 14:28  






影響微弧氧化的因素

(1)微弧氧化對(duì)鋁材要求不高,不管是含銅或是含硅的難以陽極氧化鋁合金,只要閥金屬比例占到40%以上,均可用于微弧氧化,且能得到理想膜層。

(2)表面狀態(tài)一般不需要經(jīng)過拋光處理,對(duì)于粗糙的表面,經(jīng)過微弧氧化,可修復(fù)的平整光滑;對(duì)于粗糙度低(即光滑)的表面,則會(huì)增加粗糙度。

工件材質(zhì)及表面狀態(tài)對(duì)微弧氧化會(huì)有一定的影響,所以一定要引起注意。微弧氧化生產(chǎn)線、微弧氧化電源、微弧氧化技術(shù)


微弧氧化過程

       在微弧氧化處理過程中,待氧化試樣與電源正極相連,作為陽極浸入電解液之中,不銹鋼電解槽作為陰極與電源負(fù)極相連。在開通電源后,正脈沖電壓快速升高,電流迅速下降,作為陽極的待氧化試樣開始進(jìn)行陽極氧化,產(chǎn)生大量微小氣泡,同時(shí)在試樣表面形成了一層極薄的鈍化膜。隨著電壓的繼續(xù)不斷升高,氧化膜的表面會(huì)出現(xiàn)輝光放電,微弧和火花放電燈現(xiàn)象。當(dāng)外加脈沖電壓超過一定值時(shí),材料表面出現(xiàn)一層極細(xì)微均勻的放電火花,這種微區(qū)火花放電現(xiàn)象在試樣表面不同位置出現(xiàn),在待微弧氧化表面原位生長(zhǎng)陶瓷膜層,以達(dá)到強(qiáng)化材料表面的目的。微弧氧化設(shè)備、微弧氧化生產(chǎn)線、微弧氧化電源、鋁合金微弧氧化、微弧噴涂


微弧氧化手電解質(zhì)溶液及其組分的影響

       微弧氧化電解液是獲到合格膜層的技術(shù)關(guān)鍵。不同的電解液成分及氧化工藝參數(shù),所得膜層的性質(zhì)也不同。微弧氧化電解液多采用含有一定金屬或非金屬氧化物堿性鹽溶液(如硅酸鹽、磷酸鹽、硼酸鹽等),其在溶液中的存在形式較好是膠體狀態(tài)。工作電壓過高,工件易出現(xiàn)燒蝕現(xiàn)象,生成的陶瓷層致密性較差,厚度不鈞勻。溶液的pH范圍一般在9~13之間。根據(jù)膜層性質(zhì)的需要,可添加一些有機(jī)或無機(jī)鹽類作為輔助添加劑。在相同的微弧電解電壓下,電解質(zhì)濃度越大,成膜速度就越快,溶液溫度上升越慢,反之,成膜速度較慢,溶液溫度上升較快。微弧氧化生產(chǎn)線、微弧氧化電源


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