微弧氧化電源

　　微弧氧化電源設(shè)備是一種高壓大電流輸出的特殊電源設(shè)備，輸出電壓范圍一般為0～600V；輸出電流的容量視加工工件的表面積而定，一般要求6～10A/dm2。電源要設(shè)置恒電壓和恒電流控制裝置，輸出波形視工藝條件可為直流、方波、鋸齒波等波形。日照微弧氧化技術(shù)有限公司專業(yè)從事微弧氧化技術(shù)的研發(fā)以及設(shè)備的生產(chǎn)銷售，歡迎咨詢訂購。自1932年Betz等觀察到電ji穿的現(xiàn)象以來，許多研究者都對電ji穿產(chǎn)生的原因過各種各樣的假設(shè)和模型。微弧氧化生產(chǎn)線、微弧氧化技術(shù)、微弧氧化電源

      微弧氧化又稱微等粒子氧化或陽極火花沉積，是一種在Al、Mg、Ti等有色金屬表面原位生長陶瓷膜的表面處理新技術(shù)，技術(shù)上具有先進性。該技術(shù)能夠極大地改善鋁、鎂、鈦合金的耐磨損、耐腐蝕、耐熱沖擊及絕緣性能。在鋁、鎂合金等輕金屬表面制備具有高色彩、多用途的陶瓷釉膜層。所得復合膜層的性能明顯優(yōu)于單一微弧氧化或傳統(tǒng)涂裝膜層，其優(yōu)異的表面防護效果滿足了鋁鎂合金零件于各種環(huán)境條件下的表面性能要求。但是，這樣不但使電源結(jié)構(gòu)復雜化，同時也增加了控制電路的負擔，使電源成本增加。同時色彩更鮮艷，滿足商業(yè)消費者的外在需求。

微弧氧化工藝研究

        微弧氧化的工藝研究主要集中在電流密度、電解液組成、電源模式、基材成分等工藝因素對氧化膜的厚度、結(jié)構(gòu)與性能的影響方面。 指出，電流密度對微弧氧化膜厚度有著決定性影響。微弧氧化采用利用顯微硬度儀測量膜層表面顯微硬度曰利用環(huán)境掃描電子顯微鏡對微弧氧化陶瓷膜的表面、截面形貌以及微觀結(jié)構(gòu)進行觀察。在含有濃度6%水玻璃的電解液中，使用工業(yè)交流電源，對兒種不同鋁合金，依零件的不同幾何形狀和尺寸，電流密度在1--50A / cm2范圍內(nèi)，經(jīng)60次微弧氧化實驗的結(jié)果表明，形成的氧化膜厚度與電流密度成線性關(guān)系。

微弧氧化電源基本結(jié)構(gòu)

       從微弧氧化電源技術(shù)要求來看，要實現(xiàn)脈沖電源波形變換多、參數(shù)調(diào)節(jié)范圍寬，必定使電路復雜化、造價提高、可靠性降低。所以適用、可靠_且經(jīng)濟性的電源結(jié)構(gòu)是設(shè)計方案的基本出發(fā)點?，F(xiàn)在國內(nèi)的大部分脈沖電源都是采用兩個相互獨立的電源進行疊加而組成的，在兩個電源之間加上切換裝置、控制正負脈沖電流的截止和導通。但是，這樣不但使電源結(jié)構(gòu)復雜化，同時也增加了控制電路的負擔，使電源成本增加。溫度對微弧氧化的影響微弧氧化與陽極氧化不同，所需溫度范圍較寬。 在考慮簡化電源結(jié)構(gòu)的基礎(chǔ)上，采用復合功率轉(zhuǎn)換電路的形式，即由前級向后級供電，由后級控制電流的設(shè)計方案。電源通過設(shè)定不同的占空比進行直流調(diào)壓，從而得到預定的輸出電壓，然后，利用逆變電路實現(xiàn)波形控制。