微弧氧化膜的優(yōu)勢

       微弧氧化膜與普通陽極氧化膜相比， 這種膜的空隙率大大降低，從而使耐蝕性和耐磨性有了較大提高。目前，微弧氧化技術(shù)主要應(yīng)用于Al、Mg、Ti 等有色金屬或其合金的表面處理中。鎂合金微弧氧化技術(shù)所形成的氧化膜主要由MgO 和MgAl2 O4 尖晶石相組成，總膜厚可達(dá)100 Lm以上, 具有明顯的三層結(jié)構(gòu): 外部的疏松層、中間的致密層和內(nèi)部的結(jié)合層。其膜層由于是在高溫下生成（瞬間高溫度超過3K攝氏度），膜層與基體間為冶金結(jié)合，因此與基體結(jié)合良好。微弧氧化電源、微弧氧化生產(chǎn)線、微弧氧化技術(shù)、微弧氧化

       由于鎂合金微弧陶瓷復(fù)合處理技術(shù)繼承了微弧氧化工藝的普遍優(yōu)點(diǎn)，無需對工件進(jìn)行復(fù)雜的前處理，大大減少了污水排放，而且處理過程中無環(huán)保限制元素加入，實(shí)現(xiàn)了對環(huán)境的零污染。另微弧復(fù)合處理周期短，生產(chǎn)及日常維護(hù)成本低廉，可實(shí)現(xiàn)全自動(dòng)控制生產(chǎn)，生產(chǎn)并且極大節(jié)約了人力資源成本，使其規(guī)?；b備制造業(yè)已無后顧之憂。微弧氧化多孔層可作為頂漆的攜帶層，這樣既可滿足必要的硬度和負(fù)載要求，又可作為基體金屬的一個(gè)強(qiáng)有力的防護(hù)屏障，同時(shí)還保證表面復(fù)合物材料對于基體良好的粘合性。微弧氧化技術(shù)、微弧氧化工藝

       微弧氧化是一種金屬表面陰陽極放電的現(xiàn)象。我們平時(shí)見到的電焊是一種大的電弧，把一平方厘米的電弧分解成一平方微米的小的弧點(diǎn)，就可以稱為微弧。一平方厘米電弧可以分解出來10億個(gè)以上的小弧斑，再把弧的開斷時(shí)間控制在百萬分之一秒內(nèi)，這個(gè)小弧斑可以在物質(zhì)表面形成融溶噴射現(xiàn)象。(1)涂裝效率高，涂料損失小，涂料的利用率可達(dá)90%～95%。這種現(xiàn)象在物體的陽極和陰極會(huì)有不同的物理特性，我們利用這種特性就可以進(jìn)行金屬表面鍍膜、拋光等精密處理。微弧氧化技術(shù)、微弧氧化生產(chǎn)線、微弧氧化電源、輕金屬微弧氧化

微弧氧化

       采用微弧氧化技術(shù)對鋁及其合金材料進(jìn)行表面強(qiáng)化處理，具有工藝過程簡單，占地面積小，處理能力強(qiáng)，生產(chǎn)，適用于大工業(yè)生產(chǎn)等優(yōu)點(diǎn)。微弧氧化電解液不含有毒物質(zhì)和重金屬元素，電解液抗污染能力強(qiáng)和再生重復(fù)使用率高，因而對環(huán)境污染小，滿足優(yōu) 質(zhì)清潔生產(chǎn)的需要，也符合我國可持續(xù)發(fā)展戰(zhàn)略的需要。微弧氧化處理后的鋁基表面陶瓷膜層具有硬度高，耐蝕性強(qiáng)（CASS鹽霧試驗(yàn)>480h），絕緣性好（膜阻>100MΩ），膜層與基底金屬結(jié)合力強(qiáng)，并具有很好的耐磨和耐熱沖擊等性能。微弧氧化技術(shù)工藝處理能力強(qiáng)，可通過改變工藝參數(shù)獲取具有不同特性的氧化膜層以滿足不同目的的需要；這是由于氧化膜的表面粗糙度與膜層的厚度有直接關(guān)系，而膜層的增厚過程是在極高的能量條件下陶瓷膜的重復(fù)擊穿過程。也可通過改變或調(diào)節(jié)電解液的成分使膜層具有某種特性或呈現(xiàn)不同顏色；還可采用不同的電解液對同一工件進(jìn)行多次微弧氧化處理，以獲取具有多層不同性質(zhì)的陶瓷氧化膜層。微弧氧化技術(shù)、微弧氧化生產(chǎn)線、微弧氧化電源、微弧氧化哪家好