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一、適用范圍:該系列產(chǎn)品配套于平面研磨機、拋光機用盤。合成銅盤也稱樹脂銅盤,它適用于陶瓷、藍寶石、水晶、單晶硅片、光學(xué)玻璃、不銹鋼、模具鋼、鋁等金屬材料及非金屬材料的研磨;一般用于中磨及精磨等工藝。
二、適用設(shè)備:廣泛適用于進口(英格斯、科密特、NTS、創(chuàng)技、凱勒斯等設(shè)備)及國產(chǎn)平面研磨設(shè)備。
三、常用尺寸(外徑):380mm、460mm、610mm、810mm、910mm、1270mm
四、基體(底座)厚度:30-45mm;基體材質(zhì)一般選用:304不銹鋼或者6001國標(biāo)鋁。
粗研的壓力不超過 0.3兆帕﹐精研壓力一般采用0.03~0.05兆帕。粗研速度一般為20~120米/分﹐精研速度一般取10~30米/分。
互相配合的工件常采用配研方法
①濕研:又稱敷砂研磨,把液態(tài)研磨劑連續(xù)加注或涂敷在研磨表面,磨料在工件與研具間不斷滑動和滾動,形成切削運動。濕研一般用于粗研磨,所用微粉磨料粒度粗于W7。