氫氣檢漏法的基本原理

氫氣檢漏法是一種用5%的氫氣和95%的氮?dú)獾幕旌蠚庾鳛槭聚櫄怏w進(jìn)行檢漏，稱作氫氮混合氣檢漏法，或氫氣檢漏法。5%氫氣與95%氮?dú)獾幕旌蠚怏w是不可燃的(ISO10156國(guó)際標(biāo)準(zhǔn))，無毒性和腐蝕性，也不會(huì)對(duì)設(shè)備和環(huán)境產(chǎn)生不利影響。氫氣作為檢漏使用的示蹤元素，有著很多的優(yōu)點(diǎn)。所有的氦氣檢漏儀器機(jī)構(gòu)的離子收集板，對(duì)氦氣都會(huì)產(chǎn)生記憶效應(yīng)，即氦離子打到離子收集板上，并儲(chǔ)存一定時(shí)間，然后再慢慢釋放出來，從而造成本底的噪音等問題。

氫的分子量與氦氣相近，是所有化學(xué)元素中分子量較輕的元素，有很好的擴(kuò)散性，逃逸性很強(qiáng)，吸附及粘滯性很低。由于氫分子移動(dòng)速度要高于其他分子，因此使用安全的低濃度氫氣作為示蹤氣體，可以有著更快的響應(yīng)速度和更好的檢漏精度?；竟ぷ髟硎鞘褂脤ｉT開發(fā)的氫氣傳感器，它只對(duì)氫氣有響應(yīng)信號(hào)，而對(duì)其他氣體沒有響應(yīng)，屬于唯1性檢漏性檢漏方法。一旦出現(xiàn)信號(hào)響應(yīng)，說明有氫氣通過漏孔進(jìn)入被檢件中，從而指示漏孔的位置與大小。同時(shí)，由于氫氣在一般環(huán)境中的含量濃度都非常低，所以不會(huì)因本底污染而導(dǎo)致誤報(bào)警。然后將被檢工件內(nèi)的空氣放空，放空后被檢工件預(yù)抽真空，充注4%氫氣和96%氮?dú)庵?。

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真空設(shè)備檢漏

檢漏就是用一定的手段將示漏物質(zhì)加到被檢設(shè)備或密封裝置器壁的一側(cè)，用儀器或某一方法在另一側(cè)懷疑有泄漏的地方檢測(cè)通過漏孔漏出的示漏物質(zhì)，從而達(dá)到檢測(cè)的目的。檢漏的任務(wù)就是在制造、安裝、調(diào)試過程中，判斷漏與不漏、泄漏率的大小，找出漏孔的位置；注意不可以直接將氣體排在檢漏位置，因?yàn)檫@樣會(huì)造成本底污染，使得后面的檢漏無法進(jìn)行。在運(yùn)轉(zhuǎn)使用過程中監(jiān)視系統(tǒng)可能發(fā)生的泄漏及其變化。

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設(shè)備及密封器件的微小漏隙進(jìn)行定位、定量和定性檢測(cè)的專用檢漏儀器。它具有性能穩(wěn)定、靈敏度高、操作簡(jiǎn)便，檢測(cè)迅速等特點(diǎn)，是在真空檢漏技術(shù)中用得普遍的檢漏儀器，

其測(cè)量工作原理如下。氦質(zhì)譜檢漏儀是根據(jù)質(zhì)譜學(xué)原理制成的磁偏轉(zhuǎn)型的質(zhì)譜分析計(jì)，用氦氣作為示漏檢測(cè)氣體制成的氣密性質(zhì)譜檢漏儀器。其結(jié)構(gòu)主要由進(jìn)樣系統(tǒng)、離子源、質(zhì)量分析器、收集放大器、冷陰極電離真空計(jì)等組成。離子源是氣體電離，形成一束具有特定能量的離子。質(zhì)量分析器是一個(gè)均勻的磁場(chǎng)空間，不同離子的質(zhì)荷比不同，在磁場(chǎng)中就會(huì)按照不同軌道半徑運(yùn)動(dòng)而進(jìn)行分離，在設(shè)計(jì)時(shí)只讓氦離子飛出分析器的縫隙，打在收集器上。收集放大器收集氦離子流并送入到電流放大器，通過測(cè)量離子流就可知漏率。氫氣檢漏法在制冷、空調(diào)的應(yīng)用和展望今天，在世界各地許多制冷、空調(diào)客戶正在使用各種不同型號(hào)的氫氣檢漏儀。冷陰極電離真空計(jì)指示質(zhì)譜室的壓力及用作保護(hù)裝置。

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一個(gè)真空系統(tǒng)(或容器)要求做到絕dui不漏氣是不現(xiàn)實(shí)的，也是沒有必要的，所以就要根據(jù)真空系統(tǒng)實(shí)際應(yīng)用的具體條件，對(duì)漏率指標(biāo)提出合理的要求，只要漏孔的漏率已足夠小，使得平衡壓強(qiáng)低于真空系統(tǒng)工作所需的壓強(qiáng)，這些漏孔就是允許的。真空系統(tǒng)正常工作所能允許的做大漏氣量，稱da允許漏率，簡(jiǎn)稱允許漏率。此值不僅是設(shè)計(jì)真空系統(tǒng)的一項(xiàng)主要指標(biāo)，也是檢漏的依據(jù)。該法的靈敏度與被試驗(yàn)物體的加壓、減壓狀況、泄漏的大小、泄漏點(diǎn)與檢漏器（探頭）間的距離等因素有關(guān)。

如果已知允許的總氣載，而沒有具體指明究竟有多大，那么，在設(shè)計(jì)合理的前提下。da允許漏率Q漏=0.1Q總，不同真空系統(tǒng)所允許的總漏率也不同。

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