公司產(chǎn)品包括石英掩膜版，蘇打掩膜版，以及菲林版。蘇州制版根據(jù)客戶的構(gòu)想、草圖，定制版圖，蘇州制版提供高質(zhì)量掩膜版以及后期的代加工服務(wù)！

蝕刻工藝通常稱為版

刻蝕（Etch）是按照掩模圖形或設(shè)計(jì)要求對(duì)半導(dǎo)體襯底表面或表面覆蓋薄膜進(jìn)行選擇性刻蝕的技術(shù)，它是半導(dǎo)體制造工藝，微電子IC制造工藝以及微納制造工藝中的一種相當(dāng)重要的步驟。機(jī)顯時(shí)還要注意以下幾點(diǎn)：①要定期維護(hù)顯影機(jī)，以保證已曝光的PS版顯影能正常進(jìn)行。是與光刻相聯(lián)系的圖形化（pattern）處理的一種主要工藝?？涛g分為干法刻蝕和濕法腐蝕。原位芯片目前掌握多種刻蝕工藝，并會(huì)根據(jù)客戶的需求，設(shè)計(jì)刻蝕效果好且性價(jià)比高的刻蝕解決方案。

光掩膜是刻有微電路的版，由表面純平并帶有一層鉻的石英板或玻璃板制作而成，蝕刻后的殘留鉻部分即為設(shè)計(jì)的微電圖。這種制版方式在掩膜行業(yè)稱為光透。

半導(dǎo)體集成電路制作過(guò)程通常需要經(jīng)過(guò)多次光刻襲工藝，在半導(dǎo)體晶體表面的介質(zhì)層上開鑿各種摻雜窗口、電極接觸孔或在導(dǎo)電層上刻蝕金屬互連圖形。光刻工藝需要一整套（幾塊zhidao多至十幾塊）相互間能套準(zhǔn)的、具有特定幾何圖形的光復(fù)印掩蔽模版。

掩膜版是制作掩膜圖形的理想感光性空白板，通過(guò)曝光過(guò)程，這些圖形的信息將被傳遞到芯片上，用來(lái)制造芯片。

由于圖形數(shù)據(jù)準(zhǔn)備是掩膜版加工中的關(guān)鍵步驟，要求用戶對(duì)所提交的版圖文件仔細(xì)核對(duì)，確保圖形正確性。②烤版膠濃度要合適，如烤版膠太稠，烤版效果和上墨效果也不會(huì)令人滿意。以下將對(duì)用戶較為關(guān)心的版圖繪制問(wèn)題作出具體說(shuō)明。光掩模板或者光罩，曝光過(guò)程中的原始圖形的載體，通過(guò)曝光過(guò)程，這些圖形的信息將被傳遞到芯片上。制造芯片時(shí)用.

如需要烤版，烤版時(shí)要注意：①首先要選好烤版膠，烤版膠不能太臟。干版涂附的乳膠，硬度小且易吸附灰塵，不過(guò)干版還有包膜和超微顆粒干版，其中后者可以應(yīng)用于芯片制造。如用固體桃膠配制，一定要用熱水溶膠，膠要徹底溶開、過(guò)濾再用。②把適量的烤版膠涂在版面上，用海綿將版面涂擦均勻。③烤版膠不能用干布擦拭。④版材在烘版箱中烘烤，圖像區(qū)域會(huì)均勻變色。不同的PS版，烘烤時(shí)間、溫度及終顏色會(huì)不一致，所以需通過(guò)試驗(yàn)確定烤版條件。