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當(dāng)前,隨著半導(dǎo)體技術(shù)不斷縮進,先進的集成電路器件已從平面向三維結(jié)構(gòu)轉(zhuǎn)變,集成電路制造工藝正變得越來越復(fù)雜,往往需要經(jīng)過幾百甚至上千道的工藝步驟。對于先進的半導(dǎo)體器件制造,每經(jīng)過一道工藝,硅片表面都會或多或少地存在顆粒污染物、金屬殘留或有機物殘留等,器件特征尺寸的不斷縮小和三維器件結(jié)構(gòu)的日益復(fù)雜性,使得半導(dǎo)體器件對顆粒污染、雜質(zhì)濃度和數(shù)量越來越敏感。對硅晶元上掩模表面的污染微粒的清洗技術(shù)提出了更高的要求,其關(guān)鍵點在于克服污染微顆粒與基材之間極大的吸附力,傳統(tǒng)的化學(xué)清洗、機械清洗、超聲清洗方法均無法滿足需求,而激光清洗可以很容易解決此類污染問題。
另外,隨著集成電路器件尺寸持續(xù)縮小,清洗工藝過程中的材料損失和表面粗糙度成為必須關(guān)注的問題,將微粒去除而又沒有材料損失和圖形損傷是基本的要求,激光清洗技術(shù)具有非接觸性、無熱效應(yīng),不會對被清洗物體產(chǎn)生表面損壞,且不會產(chǎn)生二次污染等傳統(tǒng)清洗方法所無法比擬的優(yōu)勢,是解決半導(dǎo)體器件污染的清洗方法。
產(chǎn)品優(yōu)勢:
設(shè)備穩(wěn)定,運行成本低,零耗材,可長期使用,零維護。
進口激光器,光束質(zhì)量好,壽命長。
對加工基材無損傷,節(jié)能環(huán)保,無二次污染。
機型特點:
易安裝、輕便小巧,噪音低,適合各種加工環(huán)境。
快速、光潔、準(zhǔn)確地清洗,去除表面漆層、涂層、氧化層。
無化學(xué)試劑,無水,無塵的環(huán)保清洗。
的激光控制系統(tǒng),功能強大,可實現(xiàn)自動化操作
應(yīng)用領(lǐng)域:
可清洗各種模具、金屬工具的除銹,除油,除漆等。
主要應(yīng)用于模具、五金、電子、冶金、石油化工等行業(yè)。