主要工藝：目前，物理氣相沉積（PVD）技術(shù)主要包括真空陰極弧物理蒸發(fā)、真空磁控離子濺射、離子鍍以及增強濺射四種。①陰極弧物理蒸發(fā)（ARC）：真空陰極弧物理蒸發(fā)過程包括將高電流，低電壓的電弧激發(fā)于靶材之上，并產(chǎn)生持續(xù)的金屬離子。被離化的金屬離子以60-100eV平均能量蒸發(fā)出來形成高度激發(fā)的離子束，在含有惰性氣體或反應(yīng)氣體的真空環(huán)境下沉積在被鍍工件表面。真空陰極弧物理蒸發(fā)靶材的離化率在90%左右，所以與真空磁控離子濺射相比，沉積薄膜具有更高的硬度和更好的結(jié)合力。

但由于金屬離化過程非常激烈，會產(chǎn)生較多的有害雜質(zhì)顆粒，涂層表面較為粗糙。②磁控離子濺射（SPUTTERING）：真空磁控離子濺射過程中，ya離子被被加速打在加有負電壓的陰極（靶材）上。離子與陰極的碰撞使得靶材被濺射出帶有平均能量4-6eV的金屬離子。這些金屬離子沉積在放于靶前方的被鍍工件上，形成涂層薄膜。由于金屬離子能量較低，涂層的結(jié)合力與硬度也相應(yīng)較真空陰極弧物理蒸發(fā)方式差一些，但由于其表面質(zhì)量優(yōu)異被廣泛應(yīng)用于有表面功能性和裝飾性的涂層領(lǐng)域中。

在鋅液中添加鋅鎳合金可有效地降低鋅和鐵原子在ζ相中的擴散速度，因而可以控制浸鍍層厚度的增長，當鋅液中Ni含量為0.06%時，Ni含量可達0.8%，加入Ni后厚度增長明顯得到控制，因而可有效地控制浸鍍層厚度的增長，并能改善鋅液的流動性能。因此，使用鋅鎳合金進行熱浸鍍鋅的鍍層厚度更加均勻，表面更光亮，鋅花少。

總之，熱鍍鋅后帶鋼表面缺陷情況較復(fù)雜，產(chǎn)生的原因也較多，解決辦法是多方面的，需要做大量艱若細致的工作，使熱鍍技木提高一步。