真空蒸鍍基本原理：在真空條件下，使金屬、金屬合金等蒸發(fā)，然后沉積在基體表面上，蒸發(fā)的方法常用電阻加熱，電子?xùn)|轟擊鍍料，使蒸發(fā)成氣相，然后沉積在基體表面，歷，真空蒸鍍是PVD法中使用早的技術(shù)。

       濺射鍍膜基本原理：充(Ar)氣的真空條件下，使氣進(jìn)行輝光放電，這時(shí)(Ar)原子電離成氮離子(Ar)，離子在電場(chǎng)力的作用下，加速轟擊以鍍料制作的陰極靶材，靶材會(huì)被濺射出來(lái)而沉積到工件表面。濺射鍍膜中的入射離子，一般采用輝光放電獲得，在10-2pa~10Pa范圍，所以濺射出來(lái)的粒子在飛向基體過(guò)程中，易和真空室中的氣體分子發(fā)生碰撞，使運(yùn)動(dòng)方向隨機(jī)，沉積的膜易于均勻。

1、納米涂層可以涂刷在各種金屬或是其他長(zhǎng)時(shí)間需要耐磨的基體上，其優(yōu)異的性能可防止金屬間磨損、擦傷及燒結(jié)，有效保護(hù)易磨損部位和提高設(shè)備運(yùn)轉(zhuǎn)周期。

2、納米涂層硬度高，可達(dá)8H，摩擦系數(shù)低可低至0.06一0.08，而且涂層致密光滑，附著力好，保護(hù)基材不被接觸粉料、物料顆粒物磨損損耗，長(zhǎng)期保護(hù)基體。另外，還可以耐疲勞磨損、耐沖蝕磨損、耐磨粒磨損、耐粘著磨損。

3、納米涂層厚度很薄，不影響零件的尺寸和機(jī)械強(qiáng)度，且能根據(jù)使用條件的要求膜厚的厚度，確保材料的原性能和耐磨質(zhì)量。

       困擾聽(tīng)障人士的，莫過(guò)于助聽(tīng)器的日常護(hù)理工作，助聽(tīng)器怕臟怕潮濕，而且助聽(tīng)器內(nèi)的電子元件小型化，抗干擾，等要求，更需要適應(yīng)各種惡劣的工作環(huán)境。隨著防水、防潮、防塵技術(shù)的不斷發(fā)展，派瑞林（Parylene）真空納米鍍膜技術(shù)在提升助聽(tīng)防護(hù)領(lǐng)域得到了很好的應(yīng)用。

       派瑞林涂層作為一種新型的三防材料，存在環(huán)保wu毒無(wú)氣味不污染環(huán)境的先天優(yōu)勢(shì)，通過(guò)氣相沉積CVD的方式形成一種致密的防護(hù)膜，從而對(duì)被涂敷的產(chǎn)品起到防潮防鹽霧防霉菌的三防效果。

1、派瑞林真空鍍膜設(shè)備有效應(yīng)用于磁性材料領(lǐng)域，派瑞林的制備工藝和優(yōu)異性能相結(jié)合，使它能對(duì)小型超小型磁材進(jìn)行無(wú)薄弱點(diǎn)全涂敷的磁材可浸鹽酸10天以上不腐蝕，目前國(guó)際上小型或者超小型磁材，幾乎都采用派瑞林鍍膜工藝作絕緣和防護(hù)涂層。

2、派瑞林真空鍍膜設(shè)備有效應(yīng)用于印制電路組件和元器件領(lǐng)域，鍍膜材料通過(guò)派瑞林真空鍍膜設(shè)備使得活性的對(duì)二雙游離基小分子氣在印制電路組件表面沉積聚合完成。氣態(tài)的小分子能滲透到包括貼裝件下面任何一個(gè)細(xì)小縫隙的基材上沉積，形成分子量約50萬(wàn)的高純聚合物。

3、派瑞林真空鍍膜設(shè)備有效應(yīng)用于微電子集成電路領(lǐng)域，派瑞林的真空氣相沉積工藝不僅和微電子集成電路制作工藝相似，而且所制備的派瑞林涂層介電常數(shù)也低，還能用微電子加工工藝進(jìn)行刻蝕制圖，進(jìn)行再金屬化，因此派瑞林（Parylene）不僅可用作防護(hù)材料，而且也能作為結(jié)構(gòu)層中的介電材料和掩膜材料使用，經(jīng)派瑞林（Parylene）涂敷過(guò)的集成電路芯片，其25um細(xì)直徑連接線，連接強(qiáng)度可提高5-10倍。