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多源有機(jī)無機(jī)熱蒸發(fā)鍍膜機(jī)供應(yīng)免費(fèi)咨詢,沈陽(yáng)鵬程

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發(fā)布時(shí)間:2020-11-07 13:06  






ZF300熱蒸發(fā)鍍膜機(jī)

ZF300熱蒸發(fā)鍍膜機(jī)是專為科研院所及實(shí)驗(yàn)室用戶群體設(shè)計(jì)開發(fā)的一款小型高真空蒸發(fā)鍍膜系統(tǒng)。采用大抽速分子泵準(zhǔn)無油高真空系統(tǒng),機(jī)架電控一體化設(shè)計(jì),整體布局緊湊合理,充分考慮人機(jī)工程學(xué)的傾斜操控面板和可直觀觀察蒸發(fā)狀態(tài)的真空室結(jié)構(gòu)。兩組/三組蒸發(fā)源可兼容金屬、有機(jī)物蒸發(fā)。一個(gè)靶槍配套的是直流電源,用于導(dǎo)電材料的濺射鍍膜2、該鍍膜儀可以制備多種不同材料的薄膜,應(yīng)用非常廣泛。廣泛應(yīng)用于高校、科研院所制備功能薄膜、蒸鍍電極、掃描電鏡制樣等,特別適合太陽(yáng)能電池、有機(jī)EL、LED顯示管研究與開發(fā)領(lǐng)域。

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小方分子提純?cè)O(shè)備多源有機(jī)無機(jī)熱蒸發(fā)鍍膜機(jī)供應(yīng)

小方分子提純?cè)O(shè)備  

主要用途:  

用來生長(zhǎng)有機(jī)材料提純的研究工作?! ?

系統(tǒng)組成:  該類設(shè)備為單室結(jié)構(gòu)。  

技術(shù)指標(biāo):  

極限真空≤610-4Pa,工作壓力≤2*10-3Pa;  

系統(tǒng)漏率≤6.7×10-7PaL/s。  

鍍膜室:腔室尺寸約為Φ50×350mm,石英材料,圓柱形結(jié)構(gòu)?! ?

抽氣系統(tǒng):采用分子泵 機(jī)械泵抽氣系統(tǒng);  

樣品可加熱,加熱溫度為:200-600℃;

可選分子泵組或者低溫泵組合渦旋干泵抽氣系統(tǒng)  

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