鍍膜設備的鍍膜方式及常會遇到的問題

鍍膜設備就是在高真空狀態(tài)下通過高溫將金屬鋁熔化蒸發(fā)，使鋁的蒸汽沉淀堆積到塑料薄膜表面上，從而使塑料薄膜表面具有金屬光澤的設備。真空鍍膜技術(shù)作為一種產(chǎn)生特定膜層的技術(shù)，在現(xiàn)實生產(chǎn)生活中有著廣泛的應用。

鍍膜設備的鍍膜方式：離子鍍，蒸發(fā)鍍，濺射鍍

(1)鍍膜設備的特點：成膜速度快0.1-50um/min，設備比較簡單，操作容易;制得薄膜純度高;薄膜生長機理較簡單。

(2)缺點：薄膜附著力較小，結(jié)晶不夠完善，工藝重復性不夠好。

鍍膜設備鍍出的產(chǎn)品掉膜是怎么回事?

一。產(chǎn)品表面潔凈度不夠，離子源清洗Ar氣放大時間長點。

二。清洗是否有加了清洗劑，或者更換了清洗劑，建議用純水先試一下。

三。工藝參數(shù)是否有變動在膜厚和電流上可以做點調(diào)整。

國內(nèi)真空鍍膜機械的發(fā)展

我國鍍膜市場一直在擴大需求，行業(yè)的高速發(fā)展同時也帶動真空設備行業(yè)的發(fā)展速度。每年我國都需要進口大量的鍍膜真空設備，這些設備工藝技術(shù)比較高，可靠性強，價錢也非常之高，不可否認的是這些設備大大提高了我國部分的鍍膜企業(yè)的生產(chǎn)水平，使之達到發(fā)達國家水平；

國內(nèi)的真空設備也相對引進先進技術(shù)取得了巨大進步，真空鍍膜設備已經(jīng)達到較高水準，完全能夠滿足一般企業(yè)的需求，部分實力廠家產(chǎn)品更是銷往全球，譬如匯成真空。

整個鍍膜行業(yè)被物理和化學鍍膜占據(jù)，他們的發(fā)展左右著我國整個鍍膜行業(yè)的發(fā)展，而隨著環(huán)保的提倡，化學鍍膜漸漸減少，環(huán)保物理鍍膜占據(jù)更多江山，鍍膜真空設備成為了這個行業(yè)發(fā)展的指標，政策對環(huán)保設備的大力支持未來真空設備的發(fā)展將更加廣闊。

真空鍍膜機和蒸發(fā)真空鍍膜機的差異

真空鍍膜機是在中間設置真空室，在真空室的左右兩側(cè)設置左右大門，而在其中配裝蒸發(fā)裝置和磁控裝置，可在該雙門上預留該兩裝置的接口，以備需要時換裝。真空鍍膜機一般都是由真空系統(tǒng)、蒸發(fā)系統(tǒng)、薄膜卷繞系統(tǒng)、冷卻系統(tǒng)、控制系統(tǒng)等主要部分組成。

當薄膜運行速度達到一定數(shù)值后，打開擋板使氣態(tài)鋁微粒在移動的薄膜基材表面沉積、冷卻即形成一層連續(xù)而光亮的金屬鋁層。

通過控制金屬鋁的蒸發(fā)速度、基材薄膜的移動速度等來控制鍍鋁層的厚度，一般鍍鋁層厚度在250～500。而蒸發(fā)真空鍍膜機是專業(yè)在塑料表面進行蒸發(fā)鍍鋁、鉻、一氧化硅的設備，鍍出的膜層牢固且細密，是工業(yè)化生產(chǎn)的理想設備，其特點是它的環(huán)保性，真空鍍膜設備屬于無三廢、無污染的清潔生產(chǎn)設備，無須環(huán)保部門審批。分為立式和臥式。

蒸發(fā)真空鍍膜設備成膜速率快，膜層牢固，色澤鮮亮，膜層不易受污染，可獲得致密性好、純度高、膜厚均勻的膜層，不產(chǎn)生廢液、廢水，可避免對環(huán)境的污染，是大規(guī)模生產(chǎn)的理想設備。離子真空鍍膜機是當今世界上用于表面涂裝PVD膜層的先進設備,運用PLC及觸摸屏實現(xiàn)自動化邏輯程序控制操作,設備結(jié)構(gòu)合理、外觀優(yōu)雅、性能穩(wěn)定、操作達到人機對話，簡便。