有通用的平面研磨機？

1.本平面研磨機為精密研磨設(shè)備，被研磨產(chǎn)品放置于研磨盤上，研磨盤逆時鐘旋轉(zhuǎn)，工件自己轉(zhuǎn)動，用重力加壓的方式對工件施壓，工件與研磨盤作相對旋轉(zhuǎn)磨擦，來達到研磨目的。  

2.修盤機采用油壓懸浮導軌，配合金剛石修面刀對研磨盤進行精密修整，使研磨盤得到精密的平面度。  

設(shè)備特點：

1、變頻控制，實現(xiàn)軟啟動，軟停機，沖擊力小，減少工件損傷。

2.系列研磨機采用PLC程序控制，觸摸屏操作面板，研磨盤轉(zhuǎn)數(shù)與定時與研磨時間可以直接在觸摸屏上輸入、速度可調(diào)，操作方便。

3、采用進口軸承，電機，確保設(shè)備的穩(wěn)定性和 壽命，確保工件的精密要求。

4、研磨機工件加壓采用壓重塊自重加壓，拋光后工件表面光亮度高、無劃傷、無劃痕、無料紋、無麻點、不塌邊、平面度高等特點。拋光后工件表面粗糙度可達到Ra0.0002；平面度可控制在±0.002mm范圍內(nèi)。

拋光和研磨在磨料和研具材料的選擇上不同。拋光通常使用的是1μm 以下的微細磨粒，拋光盤用瀝青、石蠟、合成樹脂、人造革和錫等軟質(zhì)金屬或非金屬材料制成。拋光不克不及進步工件的尺寸精度或多少外形精度，而因此獲得滑膩外面或鏡面光芒為目標，偶然也用以打消光芒（消光）。在拋光過程中,除機械切削作用外，加工氛圍的化學反應(yīng)起了重要作用。而研磨使用比較硬的金屬盤作研具,材料的破壞以微小破碎為主。

拋光屬于用微細磨粒進行的切削加工,因此拋光過程會產(chǎn)生微小的劃痕，生成細微的切屑;磨粒與拋光盤對工件有摩擦作用，使得接觸點溫度上升，工件表面產(chǎn)生塑性流動,形成凹凸不平的光滑表面;拋光劑中的脂肪酸在高溫下會產(chǎn)生化學反應(yīng),從工件金屬表面溶析出金屬皂，它是一種易于切除的化合物，起著化學洗滌作用,使工件表面平坦光滑;加工環(huán)境中由于塵埃、異物的混人也會產(chǎn)生機械作用。由于這些作用的重疊，以及拋光液、磨粒及拋光盤的力學作用，使得工件表面平滑化。以上所有這些表面整平、拋光都是先用簡單的具有一定粗糙度的工具與被整平物體互相摩擦達到整平的目的，然后用較細的砂粒或柔軟具有韌性的纖維物并配以磨料摩擦進一步達到光亮（拋光）的目的。采用工件、磨粒、拋光盤和加工液的不同組合，可實現(xiàn)不同的拋光效果。工件與拋光液、磨料及拋光盤之間的化學反應(yīng)有助于拋光加工。

平面拋光機具有以下幾個特點：

1、配備的噴射裝置是間隔自動噴射的，其液體間隔噴射時間可以根據(jù)需要自由調(diào)整；

2、操作先進、簡便，采用的程序控制系統(tǒng)具有觸摸操作面板，可以直接在觸摸面板上設(shè)置研磨盤的轉(zhuǎn)速以及需要工作的時間；

3、只對工件表面進行拋光，對工件的其他部位沒有影響；

4、采用氣缸加壓的方式對工件進行加壓處理，其壓力大小可以根據(jù)需要設(shè)置；

5、拋光后的工件無麻點，無斜紋，平面度高，其平面度可以控制在±0.002mm范圍內(nèi)。

平面拋光機可以用于各種材質(zhì)工件的拋光，適合的行業(yè)很多，用途很廣，比如航空航天領(lǐng)域、光學玻璃領(lǐng)域、陶瓷行業(yè)、電子行業(yè)等等，可以拋光的材質(zhì)有不銹鋼材質(zhì)、合金等各種金屬材質(zhì)，以及光學玻璃、導光板等各種非金屬材質(zhì)。

我們在進行雙平面研磨加工工藝的時候，一般的專業(yè)研磨拋光人員，都會先了解一下關(guān)于雙平面研磨機的特點，今天，小編就來給大家具體的說說。

1、采用無級調(diào)速系統(tǒng)控制，可輕易調(diào)整出適合研磨機的各種部件的研磨速度。采用電—氣比例閥閉環(huán)反饋壓力控制，可獨立調(diào)控壓力裝置。上盤設(shè)置緩降功能，有效的防止薄脆工件的破碎。

2、通過一個時間繼電器和一個研磨計數(shù)器，可按雙平面研磨加工要求準確設(shè)置和控制研磨時間和研磨圈數(shù)。工作時可調(diào)整壓力模式，達到研磨設(shè)定的時間或圈速時就會自動停機報警提示，實現(xiàn)半自動化操作。它是以Q235熱軋或冷軋帶鋼或卷板為母材經(jīng)鏡面拋光加工成型后再經(jīng)高頻焊接制成的圓形截面形狀尺寸的型鋼。通過增加厚度光柵尺形成閉環(huán)控制，達到設(shè)定的厚度會自動停機，實現(xiàn)在線控制生產(chǎn)。

3、主機采用調(diào)速電機驅(qū)動，配置大功率減速系統(tǒng)。