用真空鍍膜技術(shù)代替?zhèn)鹘y(tǒng)的電鍍工藝有哪些優(yōu)勢(shì)

用真空鍍膜技術(shù)代替?zhèn)鹘y(tǒng)的電鍍工藝，不但能節(jié)省大量的膜材和降低能耗，而且還會(huì)消除濕法鍍膜中所產(chǎn)生的環(huán)境污染。因此國(guó)外在鋼鐵零件涂鍍防腐層和保護(hù)膜方面，已采用真空鍍膜工藝來(lái)代替電鍍工藝。在冶金工業(yè)中，為鋼鐵和帶鋼加鍍鋁防護(hù)層已很普遍；在機(jī)械制造業(yè)中，真空鍍膜工藝用于改變改變某些加工工藝和節(jié)約貴重的原材料，如飛機(jī)渦輪發(fā)動(dòng)機(jī)的葉片已經(jīng)不用價(jià)格昂貴的耐高溫金屬制造，而是采用價(jià)格低廉易加工材料，成形后再用真空鍍膜的方法在葉片表面上加鍍耐高溫，耐腐蝕的防護(hù)層。再如汽車制造業(yè)中采用塑料制品金屬化零件代替各種金屬零件，既減輕了汽車的重量又節(jié)約了燃油的消耗。在金屬切削刀具上加鍍TiN硬膜可使用刀具壽命提高3～6倍，從而節(jié)省了大量的高速鋼材。塑料薄膜采用真空磁控濺射鍍膜機(jī)鍍膜的方法加鍍鋁等金屬膜，再進(jìn)行染色，可得到用于工業(yè)中的裝飾品薄膜。

箱式真空鍍膜機(jī)

采用箱式結(jié)構(gòu)，真空系統(tǒng)后置，便于操作和維修；整機(jī)表面平整，方便清潔，特別適合放置在凈化間內(nèi)做穿墻式安裝。

設(shè)備真空系統(tǒng)抽速大，具有抽氣時(shí)間短，真空度高，生產(chǎn)周期短等優(yōu)點(diǎn)。

采用管狀加熱器上烘烤，烘烤溫度均勻，壽命長(zhǎng)，可達(dá)到烘烤溫度350℃，烘烤均勻性270℃±10℃。

工件轉(zhuǎn)動(dòng)采用上部中心驅(qū)動(dòng)，軸承帶水冷，磁流體密封，轉(zhuǎn)動(dòng)平穩(wěn)可靠。

采用石英晶體膜厚控制儀，可實(shí)現(xiàn)鍍膜過(guò)程的自動(dòng)控制。

采用先進(jìn)的鍍膜控制系統(tǒng)，人機(jī)操作界面美觀實(shí)用，系統(tǒng)穩(wěn)定可靠，可實(shí)現(xiàn)系統(tǒng)的手動(dòng)、半自動(dòng)和全自動(dòng)操作。

適用范圍:用于生產(chǎn)IR-CUT濾光片、分色濾光片、高反射膜、AR膜、長(zhǎng)波通、短波通和多種電學(xué)薄膜

真空鍍膜設(shè)備鍍膜過(guò)程的均勻性到底多重要?

真空鍍膜設(shè)備鍍膜過(guò)程的均勻性到底多重要？ 厚度均勻性主要取決于： 1、基片材料與靶材的晶格匹配程度；2、基片表面溫度；3、蒸發(fā)功率，速率；4、真空度；5、鍍膜時(shí)間，厚度大小。組分均勻性：蒸發(fā)鍍膜組分均勻性不是很容易保證，具體可以調(diào)控的因素同上，但是由于原理所限，對(duì)于非單一組分鍍膜，蒸發(fā)鍍膜的組分均勻性不好。晶向均勻性：1、晶格匹配度;2、基片溫度;3、蒸發(fā)速率. 對(duì)于不同的濺射材料和基片，參數(shù)需要實(shí)驗(yàn)確定，是各不相同的，鍍膜設(shè)備的好壞主要在于能否控溫，能否保證好的真空度，能否保證好的真空腔清潔度。MBE分子束外沿鍍膜技術(shù)，已經(jīng)比較好的解決了如上所屬的問(wèn)題，但是基本用于實(shí)驗(yàn)研究，工業(yè)生產(chǎn)上比較常用的一體式鍍膜機(jī)主要以離子蒸發(fā)鍍膜和磁控濺射鍍膜為主。