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曝光顯影的意思是:一種將材料使用化學反應或物理撞擊作用而移除的技術。通常所指蝕刻也稱光化學蝕刻,通過曝光顯影后,在攝影過程中進入鏡頭照射在感光元件上的光量,由光圈、快門、感光度的組合來控制。通常是指使感光紙或攝影膠片感光,顯影中顯影色粉所帶電荷的極性,與感光鼓表面靜電潛像的電荷極性是相反的,反轉顯影中感光鼓與色粉電荷極性是相同的。在印刷、影印、復印、曬圖等行業(yè)中,讓影像顯現的一個過程。通常指在復印機、打印機中顯影就是用帶電的色粉使感光鼓上的靜電潛像轉變成可見的色粉圖像的過程。利用所述掩膜板分別對基板多個不同區(qū)域進行曝光顯影,所述多個不同區(qū)域拼接為全部需要曝光顯影的區(qū)域.采用本發(fā)明提供的曝光顯影方法,能夠使得低世代生產線生產較大尺寸的彩膜基板,從而提高產線利用率,降低生產成本.曝光顯影設計
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