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光刻膠的相關(guān)信息
利用這種性能,將光刻膠作涂層,就能在硅片表面刻蝕所需的電路圖形。基于感光樹(shù)脂的化學(xué)結(jié)構(gòu),光刻膠可以分為三種類(lèi)型。
光聚合型采用烯類(lèi)單體,在光作用下生成自由基,自由基再進(jìn)一步引發(fā)單體聚合,后生成聚合物,具有形成正像的特點(diǎn)。光分解型采用含有疊氮醌類(lèi)化合物的材料,經(jīng)光照后,會(huì)發(fā)生光分解反應(yīng),由油溶性變?yōu)樗苄?,可以制成正性膠。光交聯(lián)型采用聚乙烯醇月桂酸酯等作為光敏材料,在光的作用下,其分子中的雙鍵被打開(kāi),并使鏈與鏈之間發(fā)生交聯(lián),形成一種不溶性的網(wǎng)狀結(jié)構(gòu),而起到抗蝕作用,這是一種典型的負(fù)性光刻膠??逻_(dá)公司的產(chǎn)品KPR膠即屬此類(lèi)。
光刻膠定義
以下是賽米萊德為您一起分享的內(nèi)容,賽米萊德專(zhuān)業(yè)生產(chǎn)光刻膠,歡迎新老客戶(hù)蒞臨。
光刻膠是一大類(lèi)具有光敏化學(xué)作用(或?qū)﹄娮幽芰棵舾?的高分子聚合物材料,是轉(zhuǎn)移紫外曝光或電子束曝照?qǐng)D案的媒介。光刻膠的英文名為resist,又翻譯為抗蝕劑、光阻等。因?yàn)楣饪棠z的作用就是作為抗刻蝕層保護(hù)襯底表面。光刻膠只是一種形象的說(shuō)法,因?yàn)楣饪棠z從外觀上呈現(xiàn)為膠狀液體。
光刻膠通常是以薄膜形式均勻覆蓋于基材表面。當(dāng)紫外光或電子束的照射時(shí),光刻膠材料本身的特性會(huì)發(fā)生改變,經(jīng)過(guò)顯影液顯影后,曝光的負(fù)性光刻膠或未曝光的正性光刻膠將會(huì)留在襯底表面,這樣就將設(shè)計(jì)的微納結(jié)構(gòu)轉(zhuǎn)移到了光刻膠上,而后續(xù)的刻蝕、沉積等工藝,就可進(jìn)一步將此圖案轉(zhuǎn)移到光刻膠下面的襯底上,后再使用除膠劑將光刻膠除去就可以了。
光刻膠按其形成圖形的極性可以分為:正性光刻膠和負(fù)性光刻膠。正膠指的是聚合物的長(zhǎng)鏈分子因光照而截?cái)喑啥替湻肿?;?fù)膠指的是聚合物的短鏈分子因光照而交鏈長(zhǎng)鏈分子。 短鏈分子聚合物可以被顯影液溶解掉,因此正膠的曝光部分被去掉,而負(fù)膠的曝光部分被保留。
光刻膠一般由4部分組成:樹(shù)脂型聚合物(resin/polymer),溶劑(solvent),光活性物質(zhì)(photoactive compound,PAC),添加劑(Additive)。 其中,樹(shù)脂型聚合物是光刻膠的主體,它使光刻膠具有耐刻蝕性能;溶劑使光刻膠處于液體狀態(tài),便于涂覆;光活性物質(zhì)是控制光刻膠對(duì)某一特定波長(zhǎng)光/電子束/離子束/X射線等感光,并發(fā)生相應(yīng)的化學(xué)反應(yīng);添加劑是用以改變光刻膠的某些特性,如控制膠的光吸收率/溶解度等。
正性光刻膠的操作工藝
(1)合成醛樹(shù)脂。將原料混和甲醛送人不銹鋼釜,加入適量草酸為催化劑,加熱回流反應(yīng)5~6h,然后減壓蒸餾去除水及未反應(yīng)的單體酚,得到醛樹(shù)脂。(2)合成感光劑。在裝有攪拌器的夾套反應(yīng)罐中,先將三羥基二苯甲酮和215酰氯加至中攪拌下溶解,待完全溶解后,滴加有機(jī)堿溶液做催化劑,控制反應(yīng)溫度30~35℃,滴加完畢后,繼續(xù)反應(yīng)1h。將反應(yīng)液沖至水中,感光劑析出,離心分離,干燥。(3)配膠。將合成的樹(shù)脂、感光劑與溶劑及添加劑按一定比例混合配膠,然后調(diào)整膠的各項(xiàng)指標(biāo)使之達(dá)到要求。后過(guò)濾分裝,光刻膠首先經(jīng)過(guò)板框式過(guò)濾器粗濾,然后轉(zhuǎn)入超凈間(100級(jí))進(jìn)行超凈過(guò)濾,濾膜孔徑0.2mm,經(jīng)超凈過(guò)濾的膠液分裝即為成品。
光刻膠的應(yīng)用
光刻膠是微電子技術(shù)中微細(xì)圖形加工的關(guān)鍵材料之一,特別是近年來(lái)大規(guī)模和超大規(guī)模集成電路的發(fā)展,更是大大促進(jìn)了光刻膠的研究開(kāi)發(fā)和應(yīng)用。印刷工業(yè)是光刻膠應(yīng)用的另一重要領(lǐng)域。
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