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正性光刻膠
正性光刻膠
正性光刻膠也稱為正膠。正性光刻膠樹脂是一種叫做線性酚醛樹脂的酚醛甲醛,提供光刻膠的粘附性、化學(xué)抗蝕性,當沒有溶解存在時,線性酚醛樹脂會溶解在顯影液中,感光劑是光敏化合物,常見的是重氮萘醌(DNQ)。在曝光前,DNQ是一種強烈的溶解,降低樹脂的溶解速度。在紫外曝光后,DNQ在光刻膠中化學(xué)分解,成為溶解度增強劑,大幅提高顯影液中的溶解度因子至100或者更高。這種曝光反應(yīng)會在DNQ中產(chǎn)生羧酸,它在顯影液中溶解度很高。正性光刻膠具有很好的對比度,所以生成的圖形具有良好的分辨率。顯影之后,NR9-3000PY展現(xiàn)出一種倒梯形側(cè)壁,這可以方便地作單純的LIFT-OFF處理。
NR77-20000PMSDS
光刻膠運輸標識及注意事項
標簽上標明的意思
R標識
R10 YI燃。
S標識
S16 遠離火源-禁止吸煙。
S 24 避免接觸皮膚。
S 33對靜電放電采取預(yù)防措施。
S 9 將容器保持在通風(fēng)良好的地方。
水生毒性
通過自然環(huán)境中的化學(xué)、光化學(xué)和微生物降解來分解。一般不通過水解降解。300 ppm對水生生物是安全的。鹵化反應(yīng)可能發(fā)生在水環(huán)境中。
NR9-250P
20.有沒有光刻膠PC3-6000的資料嗎?
A PC3-6000并不是光刻膠,它是用在chip
on glass 上的膠粘劑。
21.是否有Wax替代品?
A PC3-6000可替代Wax做晶片和玻璃的固定,比較容易去除掉。
22.貴公司是否有粘接硅襯底和襯底的材料?
A 有,IC1-200就是
23.請問是否有不用HMDS步驟的正性光刻膠?
A 美國Futurrex 整個系列的光刻膠都不需要HMDS步驟,都可以簡化。
24.一般電話咨詢光刻膠,我們應(yīng)該向客戶咨詢哪些資料?
A 1 需要知道要涂在什么材質(zhì)上,2
還有要知道需要做的膜厚,3
還要知道光刻膠的分辨率
4還有需要正膠還是負膠,5
需要國產(chǎn)還是進口的
27.想找一款膜厚在120um,的光刻膠,有什么光刻膠可以做到??!
A 以前有使用過美國有款光刻膠可以達到Futurrex
NR21-20000P ,。
28.有沒有了解一款美國Futurrex
NR9-250P的光刻膠,請教下?
A 這是一款負性光刻膠,濕法蝕刻使用的,附著力很好,耐100度的溫度,國內(nèi)也有可以代理的公司,F(xiàn)uturre
光刻膠是世界第4大的電子化學(xué)品制造商,在光刻膠的領(lǐng)域有著不錯的聲譽,在太陽能光伏,和LED半導(dǎo)體行業(yè)都有不錯的市場占有率。
29.想找款膜厚的產(chǎn)品,進行蝕刻,有什么好推薦?
A 厚膜應(yīng)用(thick
film applicati),主要是指高縱橫比(Aspect
ratios),高分辨率,高反差,有幾款產(chǎn)品向你推薦一下《NR4-8000P,NR2-20000P,NR5-8000,這些產(chǎn)品都需要用到邊膠清洗液》
的光刻
?Futurrex
提供先進化學(xué)技術(shù)的多樣化解決方案
成立于1985年,總部設(shè)在美國新澤西州,富蘭克林市,高速成長并超過20年連續(xù)盈利的跨國公司
公司業(yè)務(wù)覆蓋范圍包括北美,亞太以及歐洲
基于多樣化的技術(shù)
應(yīng)用領(lǐng)域:微電子、光電子、LED、太陽能光伏、微機電系統(tǒng)、生物芯片、微流體、平面印刷
解決方案:的光刻膠、摻雜涂層、平坦化涂層、旋制氧化硅(spin-onglase)。阻擋層(Barrior Layere)、濕法制程
客戶:從財富100強到以風(fēng)險投資為背景的設(shè)備研發(fā)及制造公司
使命
目標
提供特殊化學(xué)品和全新工藝來增加客戶的產(chǎn)能
策略
提供獨特的產(chǎn)品來優(yōu)化生產(chǎn)制程,以提高設(shè)備能效
領(lǐng)的技術(shù)提升生產(chǎn)過程中的整體性價比
工藝步驟的減少降低了成本和產(chǎn)生瑕疵的可能
增加客戶的產(chǎn)能和生產(chǎn)的效率
工藝減化
非同尋常的顯微構(gòu)造、金屬及介電層上的圖形轉(zhuǎn)換、光刻、平坦化、摻雜、蝕刻、邦定
在生產(chǎn)過程中,不含有害溶劑
支持所有客戶的需要,與客戶共創(chuàng)成功