雙面研磨機

雙面研磨機（double side lapping machine）主要用于兩面平行的機械零件或晶體進行雙面研磨，特別是薄脆性材料的加工。二、兩者設(shè)備的裝置基本相同，同一類型工件所用的耗材和配置是一樣的。適用于各種材質(zhì)的機械密封環(huán)、陶瓷片、氣缸活塞環(huán)、油泵葉片、軸承端面/硬質(zhì)合金、不銹鋼、粉末冶金等金屬材料及硅、鍺、石英晶體、石墨、藍寶石、光學(xué)水晶、玻璃、鈮酸鋰等晶體的平面研磨和拋光。

雙面研磨機和單面研磨機的區(qū)別

一、單面研磨機是一次只能研磨工件一個面的機器；雙面研磨機則是一次性可以同時對工件的正反兩個面同時進行研磨拋光。

二、兩者設(shè)備的裝置基本相同，同一類型工件所用的耗材和配置是一樣的。 機器的研磨原理和適用范圍是一樣的。不同的地方表現(xiàn)在雙面研磨機上面有兩個研磨盤，上研磨盤和下研磨盤，兩者平行。而單面研磨機上只有一個研磨盤。

平面研磨機對工件進行研磨拋光加工的步驟

1、利用涂敷或壓嵌在研具上的磨料顆粒，通過研具與工件在一定壓力下的相對運動對加工表面進行的精整加工(見切削加工)、研磨可用于加工各種金屬和非金屬材料，加工的表面形狀有平面，內(nèi)、外圓柱面和圓錐面，凸、凹球面，螺紋，齒面及其它型面。再加上包括方達在內(nèi)的研磨企業(yè)不斷開發(fā)新產(chǎn)品新工藝，其藍寶石研磨機技術(shù)已經(jīng)達到了國內(nèi)先進水平，鏡面拋光機技術(shù)已經(jīng)接近國際水平。加工精度可達IT5～01，表面粗糙度可達R 0.63～0.01微米。

2、研磨方法一般可分為濕研、干研和半干研 3類。

①濕研：又稱敷砂研磨，把液態(tài)研磨劑連續(xù)加注或涂敷在研磨表面，磨料在工件與研具間不斷滑動和滾動，形成切削運動。

②濕研一般用于粗研磨，所用微粉磨料粒度粗于W7。

③干研：又稱嵌砂研磨，把磨料均勻在壓嵌在研具表面層中,研磨時只須在研具表面涂以少量的硬脂酸混合脂等輔助材料。干研常用于精研磨，所用微粉磨料粒度細于W7。

④半干研：類似濕研，所用的研磨液是糊狀研磨膏。研磨既可用手工操作，也可在平面研磨機上進行。工件在研磨前須先用其它加工方法獲得較高的預(yù)加工精度，所留研磨余量一般為5～30微米。

3、研具是使工件研磨成形的工具，同時又是研磨液的載體，硬度應(yīng)低于工件的硬度，又有一定的耐磨性，常用灰鑄鐵制成。濕研研具的金相組織以鐵素體為主；干研研具則以均勻細小的珠光體為基體。研磨M5以下的螺紋和形狀復(fù)雜的小型工件時，常用軟鋼研具。研磨小孔和軟金屬材料時，大多采用黃銅、紫銅研具。研具應(yīng)有足夠的剛度，其工作表面要有較高的幾何精度。研具在研磨過程中也受到切削和磨損，如操作得當(dāng)，它的精度也可得到提高，使工件的加工精度能高于研具的原始精度。①濕研：又稱敷砂研磨，把液態(tài)研磨劑連續(xù)加注或涂敷在研磨表面，磨料在工件與研具間不斷滑動和滾動，形成切削運動。

4、正確處理平面研磨機進行研磨的運動軌跡是提高研磨質(zhì)量的重要條件。在平面研磨中，一般要求：

①工件相對研具的運動，要盡量保證工件上各點的研磨行程長度相近；

②工件運動軌跡均勻地遍及整個研具表面，以利于研具均勻磨損；

③運動軌跡的曲率變化要小，以保證工件運動平穩(wěn)；

④工件上任一點的運動軌跡盡量避免過早出現(xiàn)周期性重復(fù)。為了減少切削熱，研磨一般在低壓低速條件下進行。粗研的壓力不超過 0.3兆帕，精研壓力一般采用0.03～0.05兆帕。粗研速度一般為20～120米/分，精研速度一般取10～30米/分。

5、互相配合的工件常采用配研方法。配研前，兩工件先需要經(jīng)過單件研磨，然后在兩工件配合表面間加入研磨液，兩工件互為研具，通過配研消除阻礙精密配合的微觀峰部，使配合表面相互吻合。

研磨機生產(chǎn)有哪些制作的方法呢?

制備方法有濕法和干法。濕法制品結(jié)晶細小、顆粒柔軟、較易研磨，易于作顏料。干法制品結(jié)晶大、顆粒堅硬，適宜作磁性材料、拋光研磨材料。

當(dāng)與鐵屑反應(yīng)，經(jīng)冷卻結(jié)晶、脫水干燥，經(jīng)研磨后在600～700℃煅燒8～10h，在經(jīng)水洗、干燥、粉碎制得雙端面研磨機生產(chǎn)廠家紅產(chǎn)品。也可以氧化鐵黃為原料，經(jīng)600～700℃煅燒制得氧化鐵紅。