uv光催化氧化設(shè)備

進(jìn)口濃度對(duì)家苯去除率的影響

uv光催化氧化設(shè)備試驗(yàn)光源選用一盞10W的真空紫外線（UV）燈，流量為0.6L/min，逗留時(shí)間為25s，相對(duì)濕度45%，負(fù)載P25 光催化設(shè)備的玻璃珠為UV光催化設(shè)備的填料。每距離15min從反響器出口采樣，分別在uv光催化氧化設(shè)備反響器進(jìn)口濃度為60mg/m3、100mg/m3、200mg/m3、400mg/m3。800mg/m3條件下測(cè)定家苯的去除率。當(dāng)家苯的進(jìn)口濃度由60mg/m3升高至800mg/m3時(shí)，家苯的去除率由69%下降至14%。依據(jù)Lagmium-Hinsherwood動(dòng)力學(xué)方程，在氣固相光催化反響過(guò)程中，當(dāng)uv光催化氧化設(shè)備反響物濃度很低時(shí)，uv光催化氧化設(shè)備光催化降解率與濃度呈正比，光催化降解表現(xiàn)為一級(jí)動(dòng)力學(xué)方程；但合理操控水蒸氣含量也具有重要意義，當(dāng)水蒸氣濃度過(guò)高時(shí)，水分子與其他中心反響物呈現(xiàn)競(jìng)賽，光催化進(jìn)程反響才能下降。

跟著反響物的濃度添加，去除率略有所添加；不只能夠進(jìn)行環(huán)境保護(hù)、衛(wèi)生保健，并且在涂料傍邊的使用也是適當(dāng)?shù)膿屖帧６驹囼?yàn)所選用廢氣中為中低濃度的家苯，當(dāng)家苯的濃度在這一個(gè)范圍內(nèi)，uv光催化氧化設(shè)備反響速率只與活性方位的表面反響速率常數(shù)有關(guān)，反響速率為一常數(shù)，光催化降解表現(xiàn)為零級(jí)反響動(dòng)力學(xué)。若反響物濃度過(guò)高，使得在反響時(shí)間內(nèi)很多的家苯分子未能與活性空位觸摸，而直接流出反響器，導(dǎo)致了反響去除率的下降，一起因?yàn)榧冶綕舛冗^(guò)高，反響不行完全，催化劑外表吸附了部分反響中心產(chǎn)品，占有了光催化反響的活性位也會(huì)導(dǎo)致光催化反響的功率下降。

uv光催化氧化設(shè)備