一六儀器 專業(yè)測(cè)厚儀 多道脈沖分析采集,先進(jìn)EFP算法  X射線熒光鍍層測(cè)厚儀

應(yīng)用于電子元器件,LED和照明,家用電器,通訊,汽車電子領(lǐng)域.EFP算法結(jié)合精準(zhǔn)定位決了各種大小異形多層多元素的涂鍍層厚度和成分分析的業(yè)界難題

能量色散X熒光光譜儀定義及原理

X射線熒光光譜儀是一種可以對(duì)多元素進(jìn)行快速同時(shí)測(cè)定的儀器。試樣受X射線照射后，其中各元素原子的內(nèi)殼層（K，L或M層）電子被激發(fā)逐出原子而引起電子躍遷，并發(fā)射出該元素的特征X射線熒光。每一種元素都有其特定波長(zhǎng)的特征X射線。002um~100um左右，能測(cè)試5層以上膜厚，并且可以測(cè)量合金鍍層，也可分析鍍層元素和含量比。能散型X射線熒光光譜儀（EDXRF）利用熒光X射線具有不同能量的特點(diǎn)，由探測(cè)器本身的能量分辨本領(lǐng)來(lái)分辨探測(cè)到的X射線。

鍍層厚度分析儀的測(cè)量方法主要有：楔切法，光截法，電解法，厚度差測(cè)量法，稱重法，X射線熒光法，β射線反向散射法，電容法、磁性測(cè)量法及渦流測(cè)量法等等。這些方法中前五種是有損檢測(cè)，測(cè)量手段繁瑣，速度慢，多適用于抽樣檢驗(yàn)。

X射線和β射線法是無(wú)接觸無(wú)損測(cè)量，測(cè)量范圍較小，X射線法可測(cè)極薄鍍層、雙鍍層、合金鍍層。β射線法適合鍍層和底材原子序號(hào)大于3的鍍層測(cè)量。電容法僅在薄導(dǎo)電體的絕緣覆

層測(cè)厚時(shí)采用。

江蘇一六儀器   X射線熒光光譜儀XTU/X-RAY系列 

技術(shù)參數(shù)

X射線裝置：W靶微聚焦加強(qiáng)型射線管

準(zhǔn)直器φ 0.05 mm  ；φ 0.1 mm；φ 0.2 mm；φ 0.5 mm； 準(zhǔn)直器任意選擇或者任意切換

近測(cè)距光斑擴(kuò)散度：9%

測(cè)量距離：具有距離補(bǔ)償功能，可改變測(cè)量距離，能測(cè)量凹凸異型樣品，變焦距離0-30mm(特殊要求可以升級(jí)到90mm)

樣品觀察：1/2.5彩色CCD，變焦功能對(duì)焦方式高敏感鏡頭，手動(dòng)對(duì)焦

放大倍數(shù)：光學(xué)38-46X，數(shù)字放大40-200倍

隨機(jī)標(biāo)準(zhǔn)片：十二元素片、Ni/Fe 5um、Au/Ni/Cu 0.1um/2um 

其它附件：聯(lián)想電腦一套、噴墨打印機(jī)、附件箱