光催化氧化

進步光催化氧化半導體光催化劑活性的途徑

影響光催化的要素主要有：(1) 試劑的制備方法。常用TiO2光催化劑制備辦法有溶膠—凝膠法、沉淀法、水解法等。不同的辦法制得的TiO2粉末的粒徑不同，其光催化作用也不同。一起在制備進程中有無復合，有無摻雜等對光降解也有影響。

光催化氧化光催化劑用量。在光催化降解反響動力學中可知TiO2的用量對整個降解反響的速率是有影響的。有機物的品種、濃度。以TiO2半導體為催化劑， 有機分子結(jié)構(gòu)如芳烴替代度、環(huán)效應和鹵代度對光催化氧化降解的影響。結(jié)果標明，光催化氧化對芳烴類衍生物，單替代基較雙替代基降解簡單，能構(gòu)成貫穿共軛體系的難降解。很多研討標明，光催化氧化在對甲醛類污染物降解方面有巨大的使用遠景。環(huán)效應、鹵代度對光催化降解有較大影響，芳烴、環(huán)烷烴逐次削弱，鹵代度越高，降解越困難，全鹵代時根本不降解。對甲機橙等染料廢水進行光降解的研討中發(fā)現(xiàn)，低濃度時，速率與濃度成正比聯(lián)系；當反應物濃度添加到必定的程度時， 隨濃度的添加反應速率有所增大，但不成正比，濃度到了必定的界限后，將不再影響反響速率。

光催化氧化

光催化氧化

進口濃度對家苯去除率的影響

光催化氧化試驗光源選用一盞10W的真空紫外線（UV）燈，流量為0.6L/min，逗留時間為25s，相對濕度45%，負載P25 光催化設(shè)備的玻璃珠為UV光催化設(shè)備的填料。每距離15min從反響器出口采樣，分別在光催化氧化反響器進口濃度為60mg/m3、100mg/m3、200mg/m3、400mg/m3。800mg/m3條件下測定家苯的去除率。許多學者經(jīng)過引進不同的金屬離子或半導體對UV光催化劑進行改性以提高其活性和光敏性。當家苯的進口濃度由60mg/m3升高至800mg/m3時，家苯的去除率由69%下降至14%。依據(jù)Lagmium-Hinsherwood動力學方程，在氣固相光催化反響過程中，當光催化氧化反響物濃度很低時，光催化氧化光催化降解率與濃度呈正比，光催化降解表現(xiàn)為一級動力學方程；

跟著反響物的濃度添加，去除率略有所添加；而本試驗所選用廢氣中為中低濃度的家苯，當家苯的濃度在這一個范圍內(nèi)，光催化氧化反響速率只與活性方位的表面反響速率常數(shù)有關(guān)，反響速率為一常數(shù)，光催化降解表現(xiàn)為零級反響動力學。若反響物濃度過高，使得在反響時間內(nèi)很多的家苯分子未能與活性空位觸摸，而直接流出反響器，導致了反響去除率的下降，一起因為家苯濃度過高，反響不行完全，催化劑外表吸附了部分反響中心產(chǎn)品，占有了光催化反響的活性位也會導致光催化反響的功率下降。在吸附風機的效果下，廢氣首要進入前置過濾箱體，將廢氣中的顆粒物過濾、阻截。