現(xiàn)在很多的領(lǐng)域使用蝕刻是比較多的，關(guān)于玻璃蝕刻以及金屬蝕刻是有一定的區(qū)別的，那么這兩種之間的具體區(qū)別是怎樣的呢，腐蝕機廠家給您做下簡單的分析。    玻璃的蝕刻和金屬蝕刻不同，玻璃的蝕刻首先應(yīng)考慮防蝕層。防蝕層的傳統(tǒng)方法是采用石蠟在鍋內(nèi)熔化至沸，待冷卻到邊沿結(jié)皮后，用刷子趁熱把蠟薄薄的刷到玻璃上，然后再以手工刻畫蠟層，獲得圖文。顯然這種方式已不適應(yīng)生產(chǎn)的需要。    目前已普通采用抗蝕刻印料，通過絲網(wǎng)印刷悶在玻璃上直接獲得圖文的防蝕層。商品化的耐蝕印料為8200系列玻璃耐蝕油墨。該油墨有較好的抗蝕能力，外觀呈藍色黏稠狀，網(wǎng)印后室溫自干需24h，在75°c下干燥需2h。蝕刻機內(nèi)放入蝕刻液通過采用1:3的水溶液，也有采用40%的水溶液：98%=9:1的混合液。    有較強的腐蝕性，操作時應(yīng)特別注意環(huán)境的通風(fēng)與作業(yè)的防護。當(dāng)蝕刻機蝕刻到需求的深度時，以清水沖洗即可獲得清晰透明的蝕刻圖文。




 刻蝕機目前國際上主要的供應(yīng)商為應(yīng)用材料、LamResearch等。中國方面技術(shù)有慢慢追上的趨勢，即將登錄科創(chuàng)板的中微半導(dǎo)體，其自主研發(fā)的5nm等離子體刻蝕機經(jīng)臺積電(2330-TW)驗證，將用于全球首條5nm制程生產(chǎn)線。而北方華創(chuàng)則是在14nm技術(shù)有所突破。市場預(yù)估今明兩年中國刻蝕機需求分別達15億美元與20億美元。    拋光：可以使晶圓表面達到性的平坦化，以利后續(xù)薄膜沉積工序。美國應(yīng)用材料、Rtec等均為國際上主要供應(yīng)商，中國則有中電科裝備、盛美半導(dǎo)體等。但陸廠的產(chǎn)品才剛打入8寸晶圓廠中，12寸的相關(guān)設(shè)備還在研發(fā)，明顯與國際大廠有實力上的差距。市場預(yù)計今明兩年中國拋光機需求將達3.77億美元與5.11億美元。




水平連續(xù)電解蝕刻機，針對不銹鋼、鋁及鋁合金、鋼鐵等金屬材質(zhì)之板材或帶材進行水平連續(xù)電解蝕刻加工，與傳統(tǒng)三氯化鐵化學(xué)蝕刻機相比，淘汰了污染的三氯化鐵等化學(xué)蝕刻液，環(huán)保性是其突出的優(yōu)越點；加工質(zhì)量與效果比傳統(tǒng)化學(xué)的更白更細膩；加工成本比傳統(tǒng)化學(xué)低些。LE60 機型適合于600mm寬度發(fā)下的小尺寸板帶的加工，比如不銹鋼、鋁等等標牌加工等。我司同時提供成套的前后工藝裝備。