簡單的光學薄膜模型是表面光滑、各向同性的均勻介質薄層。在這種情況下，能夠用光的干與理論來研究光學薄膜的光學性質。當一束單色平面波入射到光學薄膜上時，在它的兩個表面上發(fā)作屢次反射和折射，反射光和折射光的方向由反射定律和折射定律給出，反射光和折射光的振幅大小則由菲涅耳公式確認（見光在分界面上的折射和反射）。

使用前各電源開關及操作按鈕應處于斷開位置，接通水源，氣源，電源。

1）打開真空控制電源開關。

2）開維持泵對擴散泵抽低真空，并測量前級真空度。

3）待前級壓力達到5.0*10pa后，開擴散泵加熱。

4）開充氣閥，對鍍膜室充氣，打開鍍膜室門，裝好清洗干凈的工件，關好爐門。

5）待擴散泵正常工作一小時后，開機械泵開預抽閥，對真空室手抽真空至1.0*103pa，然后開羅茨泵。

般金屬都具有較大的消光系數(shù)，當光束由空氣入射到金屬表面時，進入金屬內部的光振幅迅速衰減，使得進入金屬內部的光能相應減少，而反射光能增加。消光系數(shù)越大，光振幅衰減越迅速，進入金屬內部的光能越少，反射率越高。人們總是選擇消光系數(shù)較大，光學性質較穩(wěn)定的那些金屬作為金屬膜材料。在紫外區(qū)常用的金屬薄膜材料是鋁，在可見光區(qū)常用鋁和銀，在紅外區(qū)常用金、銀和銅，此外，鉻和鉑也常用作一些特種鍍膜的膜料。

(1)真空蒸鍍：將需鍍膜的基體清洗后放到鍍膜室，抽空后將膜料加熱到高溫，使蒸氣達到約13.3Pa而使蒸氣分子飛到基體表面，凝結而成薄膜。

(2)陰極濺射鍍：將需鍍膜的基體放在陰極對面，把惰性氣體通入已抽空的室內，保持壓強約1.33～13.3Pa，然后將陰極接上2000V的直流電源，便激發(fā)輝光放電，帶正電的亞離子撞擊陰極，使其射出原子，濺射出的原子通過惰性氣氛沉積到基體上形成膜。

(3)化學氣相沉積：通過熱分解所選定的金屬化合物或有機化合物，獲得沉積薄膜的過程。