詳解手機(jī)行業(yè)的PVD鍍膜技術(shù)

詳解手機(jī)行業(yè)的PVD鍍膜技術(shù) PVD是英文PhysicalVaporDeition的縮寫，中文意思是“物理氣相沉積”，是指在真空條件下，用物理的方法使材料沉積在被鍍工件上的薄膜制備技術(shù)。 PVD(物理氣相沉積)鍍膜技術(shù)主要分為三類，真空蒸發(fā)鍍膜、真空濺射鍍和真空離子鍍膜。對(duì)應(yīng)于PVD技術(shù)的三個(gè)分類，相應(yīng)的真空鍍膜設(shè)備也就有真空蒸發(fā)鍍膜機(jī)、真空濺射鍍膜機(jī)和真空離子鍍膜機(jī)這三種。近十多年來，真空離子鍍膜技術(shù)的發(fā)展是快的，它已經(jīng)成為當(dāng)今先進(jìn)的表面處理方式之一。我們通常所說的PVD鍍膜，指的就是真空離子鍍膜;通常所說的PVD鍍膜機(jī)，指的也就是真空離子鍍膜機(jī)。 PVD鍍膜(離子鍍膜)技術(shù)，其具體原理是在真空條件下，采用低電壓、大電流的電弧放電技術(shù)，利用氣體放電使靶材蒸發(fā)并使被蒸發(fā)物質(zhì)與氣體都發(fā)生電離，利用電場(chǎng)的加速作用，使被蒸發(fā)物質(zhì)及其反應(yīng)產(chǎn)物沉積在工件上。

真空鍍膜設(shè)備多弧離子鍍膜工藝

真空鍍膜設(shè)備多弧離子鍍膜工藝不僅避免了傳統(tǒng)表面處理的不足，且各項(xiàng)技術(shù)指標(biāo)都優(yōu)于傳統(tǒng)工藝，在五金、機(jī)械、化工、模具、電子、儀器等領(lǐng)域有廣泛應(yīng)用。催化液和傳統(tǒng)處理工藝相比，在技術(shù)上有哪些創(chuàng)新？ 1、多弧離子鍍膜不用電、降低了成本、成本僅為多弧離子鍍膜鎳的二分之一，真空鍍膜機(jī)多弧離子鍍膜鉻的三分之一，不銹鋼的四分之一，可反復(fù)利用，大大降低了成本。 2、多弧離子鍍膜易操作、工藝簡(jiǎn)單、把金屬基件浸入兌好的液體中“一泡即成”，需要再加工時(shí)不經(jīng)任何處理。

鍍膜設(shè)備該選擇哪種主泵配置

有油真空系統(tǒng)基本是以油擴(kuò)散泵為主泵，前級(jí)泵采用機(jī)械泵或者羅茨泵。我們知道，油擴(kuò)散泵的壓力方位比較大，同時(shí)抽氣速率非常的高，能夠達(dá)到每秒十幾萬升。其工作能力在業(yè)內(nèi)是數(shù)一數(shù)二的，這也得益于其具有良好的性能。從優(yōu)點(diǎn)上來講，有油真空系統(tǒng)工作可靠，沒有振動(dòng)，沒有噪音，壽命長(zhǎng)，維護(hù)建檔透支費(fèi)用低，是很多廠家都喜歡使用的。但是其缺點(diǎn)也非常的明顯，就是會(huì)形成污染源，大規(guī)格泵在這方面更加的嚴(yán)重。