獨(dú)立清洗、貼片設(shè)備產(chǎn)品小于3英寸，使用Dipping方式清洗、獨(dú)立偏光片貼附設(shè)備完成生產(chǎn)。本清洗機(jī)是用來(lái)清洗產(chǎn)品表面，去除表面雜質(zhì)并烘干，為后續(xù)貼片工序做好準(zhǔn)備。

先利用洗劑、DIW加上超聲震蕩，使表面雜質(zhì)脫落融入洗劑，再利用DIW加超聲震蕩、熱烘去除表面殘留的洗劑、水份等，達(dá)到清洗目的。

清洗設(shè)備構(gòu)成和主要性能指標(biāo)

清洗設(shè)備構(gòu)成如下：

投入段 => 洗凈段 => 熱烘段 => 取出段

清洗機(jī)構(gòu)成圖

投入段：

2-3個(gè)承載位置，傳感器感知工裝籃有無(wú)，采用氣缸升降移載方式投入，作動(dòng)：Z向氣缸上升 → X向氣缸右移 → Z向氣缸下降 → X向氣缸退回原點(diǎn) → 依循此方式將工裝籃投入到洗凈承載座上.注：本機(jī)構(gòu)設(shè)有程序保護(hù)功能及SENSOR檢知。

洗凈段：

主要構(gòu)成；承載位1個(gè)，洗劑槽2個(gè)，噴淋槽1個(gè)，洗凈槽2個(gè)，慢提拉槽1個(gè)。

旋轉(zhuǎn)噴淋清洗是浸入型清洗的變型。系統(tǒng)中一般包括自動(dòng)配液系統(tǒng)、清洗腔體、廢液回收系統(tǒng)。

噴淋清洗在一個(gè)密封的工作腔內(nèi)一次完成化學(xué)清洗、去離子水沖洗、旋轉(zhuǎn)甩干等過(guò)程，減少了在每一步清洗過(guò)程中由于人為操作因素造成的影響。在噴淋清洗中由于旋轉(zhuǎn)和噴淋的效果，使得硅片表面的溶液更加均勻，同時(shí)，接觸到硅片表面的溶液永遠(yuǎn)是新鮮的，這樣就可以做到通過(guò)工藝時(shí)間設(shè)置，控制硅片的清洗腐蝕效果，實(shí)現(xiàn)很好的一致性。密封的工作腔可以隔絕化學(xué)液的揮發(fā)，減少溶液的損耗以及溶液蒸氣對(duì)人體和環(huán)境的危害。各系統(tǒng)分別貯于不同的化學(xué)試劑，在使用時(shí)到達(dá)噴口之前才混合，使其保持鮮，以發(fā)揮潛力，這樣在清洗時(shí)會(huì)反應(yīng)快。用N2噴時(shí)使液體通過(guò)很小的噴口，使其形成很細(xì)的霧狀，至硅片表面達(dá)到更好的清洗目的。

旋轉(zhuǎn)噴淋清洗機(jī)

專業(yè)定制噴淋清洗機(jī)、單工位旋轉(zhuǎn)噴淋清洗機(jī)、多工位旋轉(zhuǎn)噴淋清洗機(jī)、定位旋轉(zhuǎn)噴淋清洗機(jī)等，從2000年開(kāi)始，一直致力于工業(yè)清洗設(shè)備的研發(fā)、生產(chǎn)制造，并且現(xiàn)階段，已經(jīng)有一套完整的工藝流程可供客戶選擇，不斷試驗(yàn)，不斷突破，為客戶提供更好的清洗解決方案，讓工業(yè)清洗更輕松。

我們正在對(duì)我們的器械清洗機(jī)進(jìn)行日常測(cè)試。在性能測(cè)試之前，是否需要對(duì)每臺(tái)機(jī)器進(jìn)行物理檢查？如果需要，檢查中應(yīng)包括哪些內(nèi)容？

 答：為將清洗消毒機(jī)等處理設(shè)備的效率性能大化，對(duì)設(shè)備及其部件進(jìn)行常規(guī)檢查是非常重要的。記住，清洗架也是處理設(shè)備的一部分，使用前需要小心維護(hù)和檢查。

任一層噴淋臂或輸水性能差異都會(huì)阻礙清洗機(jī)的功能和清洗效果。因此清洗機(jī)每一層的性能都有可能不同。僅測(cè)試一層不能對(duì)清洗機(jī)的整體性能進(jìn)行充分或真實(shí)評(píng)估。