磁控濺射法定義是什么？

磁控濺射法是在高真空充入適量的Ar氣，在陰極（柱狀靶或平面靶）和陽(yáng)極（鍍膜室壁）之間施加幾百K直流電壓，在鍍膜室內(nèi)產(chǎn)生磁控型異常輝光放電，使Ar氣發(fā)生電離。Ar離子被陰極加速并轟擊陰極靶表面，將靶材表面原子濺射出來(lái)沉積在基底表面上形成薄膜。

離子濺射鍍膜機(jī)

多靶離子束濺射鍍膜機(jī)系統(tǒng)在光學(xué)薄膜沉積應(yīng)用中處于較高地位。多靶離子束濺射鍍膜機(jī)是當(dāng)今僅存的在同一系統(tǒng)可互換使用行星型，簡(jiǎn)單旋轉(zhuǎn)型或可翻轉(zhuǎn)型基片裝置的系統(tǒng)。

在通信應(yīng)用上，能用于沉積高產(chǎn)值的200，100和50GHz具有窄通帶,寬截止頻帶,高隔離度,低插損特性的DWDM濾波器，滿足為嚴(yán)格的性能指標(biāo)。在其它光學(xué)應(yīng)用上，多靶離子束濺射鍍膜機(jī)能用于沉積增透膜，復(fù)雜的非四分之一波長(zhǎng)膜層，以及吸收和散射低于百萬(wàn)分位的超低損耗激光鏡。

多弧磁控濺射多功能離子鍍膜設(shè)備

多弧磁控濺射多功能離子鍍膜備可在金屬或非金屬的表面鍍制硬質(zhì)增壽臘、裝飾臘、合金膜或多層臘，可廣泛用于刀刃、模具、鐘表、首飾、燈具、建筑五金及裝飾用彩色鋼板、眼鏡架、電子產(chǎn)品、器械、儀器儀表等領(lǐng)域。

多弧磁控濺射多功能離子鍍膜設(shè)備在真空條件下采用物理氣相沉積技術(shù)，在基片上鍍制氮化鈦及其它薄膜。它將多弧離子鍍技術(shù)、柱形靶及磁控油射離子鍍技術(shù)有機(jī)結(jié)合在一起，可單獨(dú)使用或同時(shí)使用，制取含有連續(xù)過(guò)渡層的各種膜層。

多弧磁控濺射多功能離子鍍膜設(shè)備制造簡(jiǎn)單，使用方便，運(yùn)行成本低無(wú)污染，經(jīng)濟(jì)效益高。其雙真空室可交替工作，能提高工效一倍，大大節(jié)省投資。

PVD硬質(zhì)涂層真空鍍膜機(jī)應(yīng)用介紹及它的系統(tǒng)特點(diǎn)

PVD超硬質(zhì)涂層（工模具）真空鍍膜機(jī)是當(dāng)今世界上用于表面涂裝PVD膜層的先進(jìn)專用設(shè)備,運(yùn)用PLC及觸摸屏實(shí)現(xiàn)自動(dòng)化邏輯程序控制操作,設(shè)備結(jié)構(gòu)合理、外觀優(yōu)雅、性能穩(wěn)定、操作達(dá)到人機(jī)對(duì)話，簡(jiǎn)便，鍍出的膜層牢固且細(xì)密，是工業(yè)化生產(chǎn)的理想設(shè)備，其特點(diǎn)是它的環(huán)保性，真空鍍膜設(shè)備屬于無(wú)三廢、無(wú)污染的清潔生產(chǎn)設(shè)備，無(wú)須環(huán)保部門審批。由于配有先進(jìn)的電器控制系統(tǒng)及穩(wěn)定的工藝界面,針對(duì)各種金屬進(jìn)行表面鍍膜.例如:鐘表行業(yè)(表帶、表殼、表盤等)、五金行業(yè)（衛(wèi)生潔具、門把手、拉手、門鎖等）、建筑行業(yè)（不銹鋼板、樓梯扶手、立柱等）、精密模具業(yè)（沖棒標(biāo)準(zhǔn)件模具、成型模具等）、工具行業(yè)（鉆頭、硬質(zhì)合金、銑刀、拉刀、刀頭）、汽車工業(yè)（活塞、活塞環(huán)、合金輪轂等）以及鋼筆、眼鏡等等，使其表面得到既美觀又耐磨的功能性磨層.主要鍍制的膜層有:離子金、離子銀、氮化鈦膜、碳化鈦膜、氮化鋯膜、鈦鋁合金膜、氮化鉻以及RP鍍等超硬功能性金屬膜，經(jīng)離子鍍膜加工后的工件，可以提高硬度、耐磨度，抗腐蝕和美化的作用。可鍍制顏色有鈦金系列、鋯金系列、拉絲系列、黑色系列、彩色膜層系列共十多種色系。