等離子拋光可以降低生產(chǎn)成本。半自動(dòng)、全自動(dòng)環(huán)保等離子納米拋光設(shè)備采用自動(dòng)化控制，操作簡(jiǎn)單，維護(hù)方便，減少作業(yè)人員、降低人工成本。同時(shí)也可為客戶節(jié)省因人工拋光、電解拋光、化學(xué)拋光等傳統(tǒng)拋光方法而造成的許多材料消耗。

等離子也稱為物質(zhì)的第四態(tài) ，是一種電磁氣態(tài)放電現(xiàn)象 ，使氣態(tài) 離子部分電離，這種被電離的氣體包括原子、分子、原子團(tuán)、離子和 電子 等離子就是在電負(fù)荷壓力下拋光溶劑與加工產(chǎn)昂之間所產(chǎn)生的 一層氣體也就是臭氧 ，而這種氣體的離子達(dá)到一定數(shù)量時(shí)就形成等離子形態(tài) ，在正離子的影響下使金屬的表面產(chǎn)生圈子置換 ，而產(chǎn)品的光潔度就脫穎而出 ，從而達(dá)到拋光的效果。

1環(huán)保等離子拋光設(shè)備主要用于不銹鋼拋光處理,影響尺寸精度0.01mm,粗糙度可達(dá)0.002,主要用于眼鏡、

2 衛(wèi)浴、手表等的產(chǎn)品加工。

3 等離子拋光技術(shù)主要是針對(duì)目前市場(chǎng)上不銹鋼、鋅合金、銅合金及鋁合金等拋光的難題而研發(fā)的,該技術(shù)可

4 在去除不銹鋼表面毛刺,同時(shí)可達(dá)到表面鏡面拋光效果。

5 主要技術(shù)要點(diǎn)是將之前的等離子拋光中的氣態(tài)粒子,原子、分子、原子團(tuán)、氣離子和和電離子得到數(shù)萬(wàn)倍的

6 增加,而這些離子在對(duì)要拋光的工件進(jìn)行物理摩擦?xí)r它們的平均活躍度得到了的增加,它的活躍程度遠(yuǎn)遠(yuǎn)高

7 于材料表面的活躍度達(dá)數(shù)億倍,使鋁材表面的光潔度脫影而出。

8 高純度,有效減小對(duì)電子類產(chǎn)品的沾污。拋光后產(chǎn)品的特性主要表現(xiàn)在:粗糙度降低,光潔度、精密度提

9 高、堅(jiān)硬耐用、缺口敏感性降低、變得光滑整齊、摩擦系數(shù)下降、磨損減少等。

等離子拋光作為一種新的拋光工藝,是不銹鋼拋光的一種發(fā)展趨勢(shì)。如果能好的利用等離子拋光將為我們節(jié)省很多時(shí)間和成本。

等離子納米拋光是一種全新的金屬表面處理工藝——僅在工件表面的分子層與等離子反應(yīng)，分子中原子一般間距為0.1-0.3納米，處理深度為0.3-1.5納米。拋光物的表面粗糙度在1mm范圍內(nèi)，因此等離子納米拋光處理可以化學(xué)活化工件表面，去除表面分子污染層，交叉鏈接表面在化學(xué)物質(zhì)。

等離子拋光所產(chǎn)生的表面電流密度與液態(tài)電打磨相當(dāng)，但由倍亮拋光自主研發(fā)的等離子拋光技術(shù)，其材料去除速度為1μm/min，是液態(tài)電打磨的10-30倍。

我們研發(fā)并應(yīng)用無(wú)毒的拋光鹽來(lái)產(chǎn)生穩(wěn)定的等離子體，不僅獲取均勻一致的拋光效果，更避免了對(duì)人體有害的工作環(huán)境。低濃度的等離子液對(duì)環(huán)境友好，有效規(guī)避因污染環(huán)境帶來(lái)的經(jīng)濟(jì)損失。