真空鍍膜設(shè)備_磁控濺射鍍膜設(shè)備技術(shù)應(yīng)用

蒸發(fā)和磁控濺射兩用立式裝飾鍍膜機(jī)，主要適用于塑料、陶瓷、玻璃金屬材料表面鍍制金屬化裝飾膜。由于鍍膜室為立式容器，所以它具有臥式鍍膜機(jī)的一切優(yōu)點(diǎn)，又利于自重較大的、易碎的鍍件裝卡，更可方便地實(shí)現(xiàn)自動(dòng)生產(chǎn)線(xiàn)，是替代傳統(tǒng)濕法水電鍍的更為理想的新一代真空鍍膜設(shè)備。本機(jī)鍍部分產(chǎn)品可不做底油。

真空鍍膜設(shè)備機(jī)主要特點(diǎn)配用改進(jìn)型高真空排氣系統(tǒng)，抽速快、、節(jié)電、降噪和延長(zhǎng)泵使用壽命;實(shí)現(xiàn)蒸發(fā)、磁控濺射、自動(dòng)控制，操作簡(jiǎn)單，工作可靠;蒸發(fā)鍍應(yīng)用新型電極引入裝置，接觸電阻小且可靠;磁控濺射應(yīng)用鍍膜材料廣泛，各種非導(dǎo)磁的金屬、合金均可作鍍料;結(jié)構(gòu)緊湊、占地面積小;磁控、蒸發(fā)共用兩臺(tái)立式工件車(chē)，操作方便。

(或雙門(mén)蒸發(fā)、磁控兩用機(jī))至成真空科技業(yè)務(wù)范圍真空鍍膜成套設(shè)備與技術(shù)，真空工程用各種泵、閥、真空計(jì)、油、脂、密封件，真空鍍膜材料、涂料、金屬及合金制品。

真空鍍膜設(shè)備故障診斷與排除、老產(chǎn)品改造。新型塑料、金屬、玻璃等制品表面處理工藝及技術(shù)研究，咨詢(xún)服務(wù)。新技術(shù)、新設(shè)備、新工藝至成真空科技新開(kāi)發(fā)的磁控、蒸發(fā)多用鍍膜機(jī)，配用改進(jìn)型高真空抽氣系統(tǒng)及全自動(dòng)控制系統(tǒng)，抽速快、、操作簡(jiǎn)單、工作可靠;具有可鍍膜系廣、膜層均勻、附著力好、基板溫度底等特點(diǎn);是鍍制金屬、合金及化合物膜的理想設(shè)備;適合鍍制透明膜、半透明膜、超硬膜、屏蔽膜及一些特殊的功能性膜。已廣泛應(yīng)用在光學(xué)、電子、通訊、航空等領(lǐng)域。

光學(xué)真空鍍膜機(jī)薄膜根據(jù)其用途分類(lèi)、特性與應(yīng)用可分為哪些膜

光學(xué)真空鍍膜機(jī)薄膜根據(jù)其用途分類(lèi)、特性與應(yīng)用可分為：反射膜、增透膜/減反射膜、濾光片、偏光片/偏光膜、補(bǔ)償膜/相位差板、配向膜、擴(kuò)散膜/片、增亮膜/棱鏡片/聚光片、遮光膜/黑白膠等。相關(guān)衍生的種類(lèi)有光學(xué)級(jí)保護(hù)膜、窗膜等。

光學(xué)真空鍍膜機(jī)光學(xué)薄膜的特點(diǎn)是：表面光滑，膜層之間的界面呈幾何分割;膜層的折射率在界面上可以發(fā)生躍變，但在膜層內(nèi)是連續(xù)的;可以是透明介質(zhì)，也可以是吸收介質(zhì);可以是法向均勻的，也可以是法向不均勻的。實(shí)際應(yīng)用的薄膜要比理想薄膜復(fù)雜得多。這是因?yàn)椋褐苽鋾r(shí)，薄膜的光學(xué)性質(zhì)和物理性質(zhì)偏離大塊材料，起表面和界面是粗糙的，從而導(dǎo)致光束的漫反射;膜層之間的相互滲透形成擴(kuò)散界面;由于膜層的生長(zhǎng)、結(jié)構(gòu)、應(yīng)力等原因，形成了薄膜的各種向異性;膜層具有復(fù)雜的時(shí)間效應(yīng)。

離子真空鍍膜機(jī)鍍膜工藝及鍍膜產(chǎn)品表面防腐方法

不銹鋼基材通常會(huì)用拋光、拉絲、噴砂、化學(xué)蝕刻、激光雕刻、數(shù)控機(jī)床雕刻等作表面美工處理，有的還用激光焊接，水法電鍍鎳鉻層等。那么離子真空鍍膜機(jī)啟到了很關(guān)鍵的作用，今天至成小編為大家講解一下離子真空鍍膜機(jī)鍍膜工藝及鍍膜產(chǎn)品表面防腐方法。

其實(shí)大家都知道，以上介紹幾種不銹鋼基材表面處理方法，各自有各自的優(yōu)勢(shì)和劣勢(shì)。如：拋光作業(yè)會(huì)在工件上殘留難以去除的硬化了的拋光蠟；尼龍輪拉絲在拉絲溝上會(huì)殘留透明的不易發(fā)現(xiàn)的高分子化合物；砂輪拉絲可能殘留磨粒和粘結(jié)劑，或因摩擦過(guò)熱產(chǎn)生氧化皮；噴砂會(huì)有陶瓷砂粒﹑玻璃砂粒、氧化鋁砂粒殘留鑲嵌在表面上；化學(xué)蝕刻會(huì)有腐蝕產(chǎn)物殘留在腐蝕坑內(nèi)，或在其它非腐蝕表面上殘留用于防腐蝕的保護(hù)物質(zhì)；激光雕刻處理會(huì)產(chǎn)生高溫氧化皮和燒蝕基體碎片殘留；數(shù)控機(jī)床雕刻會(huì)有高溫氧化皮和切削油殘留，還會(huì)有基材碎片被壓入基體上；激光焊接也會(huì)導(dǎo)致高溫氧化等；水法電鍍鉻層會(huì)生成難以去除的復(fù)雜氧化物，這些處理引起的污染不徹底清除會(huì)導(dǎo)致離子鍍過(guò)程打火、鍍層假附著、掉膜、顏色不均等不良。

在離子真空鍍膜機(jī)鍍產(chǎn)品中美工處理方式往往不是單一的，而是多種作業(yè)組合，這更增加了鍍前清洗的困難。采用傳統(tǒng)的超聲去油除蠟的方法是不能勝任的，必須調(diào)整清洗工藝，對(duì)不同的污染，可選擇機(jī)械清除、氣相清洗﹑真空加熱后再清洗、陰極電解﹑陽(yáng)極電解、或采用針對(duì)性的清洗劑等等。這些綜合措施可取得較好的效果，但對(duì)有些污染仍未找到理想的解決辦法。新近等離子體拋光方法應(yīng)用到鍍前清洗是值得關(guān)注的技術(shù)，該技術(shù)在某些鍍層的褪鍍?nèi)〉昧己眯Ч?

真空PVD鍍膜涂層工藝有那些步驟呢?

今天至成真空小編為大家詳細(xì)介紹一下真空PVD鍍膜涂層工藝操作步驟，它的先后順序是怎樣的，有那些細(xì)節(jié)和原理是必須要了解的。

首先在處理工藝前，需要褪膜、噴砂、拋光、鈍化、清洗、裝夾。鍍膜工藝，抽真空、加熱烘烤、漏率測(cè)試、轟擊清洗、鍍膜、冷卻出爐。后處理工藝：首先清洗環(huán)節(jié)，確保真空鍍膜機(jī)鍍膜前產(chǎn)品表面的清潔，越新鮮的表面，越能保證鍍膜質(zhì)量；然后再抽真空將真空室內(nèi)的殘余氣體抽走。接下來(lái)加熱烘烤，爐體和工件同時(shí)加熱，加速殘余氣體的釋放。壓升率測(cè)試，測(cè)試爐體的漏氣率和放氣率。轟擊清洗，去除工件表面的雜志，露出新鮮表面。鍍膜，沉積膜層。冷卻，避免工件氧化變色。為什么要進(jìn)行冷卻，鍍膜工藝完成后，真空室內(nèi)溫度高達(dá)500℃，如果不冷卻就放氣，沒(méi)有被鍍上膜的高溫工件表面會(huì)因?yàn)榕c空氣反應(yīng)氧化變成藍(lán)色。