真空電鍍機(jī)的操作規(guī)范

1.正常工作的真空電鍍機(jī)在開動(dòng)時(shí)，需要先將水管打開，在真空電鍍機(jī)運(yùn)行之中要時(shí)刻注意水壓的狀態(tài)；

2.在離子轟擊和蒸發(fā)時(shí)，要特別注意線路方面的情況，不得觸動(dòng)高壓線頭，以防觸電；

3.在用真空電鍍機(jī)的電子槍的時(shí)候，要在鐘罩的外面圍上一定的防護(hù)措施，在觀察真空電鍍機(jī)內(nèi)部工作狀態(tài)的時(shí)候，需要隔著一定的防護(hù)玻璃，觀察者建議戴上鉛玻璃的研究，以防X射線對(duì)人體造成危害；

真空電鍍機(jī)維修注意事項(xiàng)

4.在對(duì)多層介質(zhì)膜進(jìn)行鍍膜時(shí)，要記得安裝好通風(fēng)吸塵裝置，及時(shí)對(duì)有害粉塵進(jìn)行清除；

5.真空電鍍機(jī)的酸洗裝置需在通風(fēng)裝置內(nèi)進(jìn)行操作，且操作時(shí)工作人員應(yīng)戴好橡膠手套；

6.真空電鍍工作完畢之后，應(yīng)進(jìn)行斷水和斷電的操作，防止出現(xiàn)資源浪費(fèi)和設(shè)備意外。

磁控濺射鍍膜設(shè)備濺射方式

可鍍材料廣泛

離子鍍由于是利用高能離子轟擊工件表面，使大量的電能在工件表面轉(zhuǎn)換成熱能，從而促進(jìn)了表層組織的擴(kuò)散作用和化學(xué)反應(yīng)。然而，整個(gè)工件，特別是工件心部并未受到高溫的影響。因此這種鍍膜工藝的應(yīng)用范圍較廣，受到的局限性則較小。通常，各種金屬、合金以及某些合成材料、絕緣材料、熱敏材料和高熔點(diǎn)材料等均可鍍復(fù)。即可在金屬工件上鍍非金屬或金屬，也可在非金屬上鍍金屬或非金屬，甚至可鍍塑料、橡膠、石英、陶瓷等。

主要的鍍膜濺射方式有哪些？

磁控濺射鍍膜設(shè)備在目前鍍膜行業(yè)中是一種不可缺少的鍍膜器材，目前大部分鍍膜企業(yè)都會(huì)有使用到。我們平日生產(chǎn)的時(shí)候都是由機(jī)器生產(chǎn)，那么大家知道目前的磁控鍍膜設(shè)備主要的濺射方式有哪幾種么？下面小編就來給大家講講磁控鍍膜設(shè)備的濺射方式。

磁控濺射鍍膜設(shè)備原理解析

主要的磁控濺射鍍膜設(shè)備可以根據(jù)其特征分為以下四種：（1）直流濺射；（2）射頻濺射；（3）磁控濺射；（4）反應(yīng)濺射.另外,利用各種離子束源也可以實(shí)現(xiàn)薄膜的濺射沉積.

現(xiàn)在的直流濺射（也叫二級(jí)濺射）較少用到,原因是濺射氣壓較高,電壓較高,濺射速率小,膜層不穩(wěn)定等缺點(diǎn).

直流濺射發(fā)展后期,人們?cè)谄浔砻婕由弦欢ù艌?chǎng),磁場(chǎng)束縛住自由電子后,以上缺點(diǎn)均有所改善,也是現(xiàn)階段廣泛應(yīng)用的一種濺射方法.

CCZK-SF磁控濺射鍍膜設(shè)備

而后又有中頻濺射,提高了陰極發(fā)電速率,不易造成放電、靶材等現(xiàn)象.

而射頻濺射是很高頻率下對(duì)靶材的濺射,不易放電、靶材可任選金屬或者陶瓷等材料.沉積的膜層致密,附著力良好.

如果尋找本質(zhì)區(qū)別是：直流濺射是氣體放電的前期,而射頻是后期,我們常見的射頻是電焊機(jī).濺射過程所用設(shè)備的區(qū)別就是電源的區(qū)別.

以上就是主要的磁控濺射鍍膜設(shè)備的濺射方式，希望本文能夠讓用戶對(duì)設(shè)備更加了解。