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新北LED真空鍍膜設(shè)備誠信企業(yè)

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發(fā)布時間:2020-11-14 10:23  






離子鍍是在真空蒸發(fā)鍍和濺射鍍膜的基礎(chǔ)上發(fā)展起來的一種鍍膜技術(shù),將各種氣體放電方式引入到氣相沉積領(lǐng)域,整個氣相沉積過程都是在等離子體中進行的。  

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真空鍍膜機主要指一類需要在較高真空度下進行的鍍膜,具體包括很多種類,包括真空離子蒸發(fā),磁控濺射,MBE分子束外延,PLD激光濺射沉積等很多種。主要思路是分成蒸發(fā)和濺射兩種。 

真空鍍膜機工作的環(huán)境要求:       

真空鍍膜設(shè)備要在真空條件下工作,因此該設(shè)備要滿足真空對環(huán)境的要求。真空對環(huán)境的要求,一般包括真空設(shè)備對所處實驗室(或車間)的溫度、空氣中的微粒等周圍環(huán)境的要求,和對處于真空狀態(tài)或真空中的零件或表面要求兩個方面。




周圍環(huán)境的好壞直接影響真空設(shè)備的正常使用;而真空設(shè)備的真空室或裝入里面的零件是否清洗,又直接影響設(shè)備的性能。如果空氣中含有大量的水蒸氣和灰塵,在真空室沒有經(jīng)過清洗的情況下用油封機械泵去抽氣,要達到預(yù)期的真空度很難的。眾所周,油封式機械泵不宜抽除對金屬有腐蝕性、對真空油其反應(yīng)的以含有顆粒塵埃的氣體。水蒸氣為可凝性氣體,當大量抽除可凝性氣體時,對泵油的污染會更加嚴重,結(jié)果使泵的極限真空下降,破壞了泵的抽氣性能。




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