當(dāng)光線照bai射到乳劑時(shí)，鹵化銀中的微小晶體會(huì)發(fā)生du變化，當(dāng)顯影時(shí)zhi，受到光線照射而發(fā)生dao變化的晶體會(huì)形成黑色的金屬銀晶體。結(jié)果畫幅中受到光線照射的區(qū)域會(huì)轉(zhuǎn)變?yōu)榈灼习岛谏慕饘巽y區(qū)域。

畫幅中那些沒有受光線照射的區(qū)域又會(huì)怎樣呢？這些區(qū)域的鹵化銀晶體沒有變化，在顯影過程中就會(huì)被沖洗掉。因此，畫幅中沒有受到光線照射的區(qū)域在底片上會(huì)變?yōu)榭盏膮^(qū)域。這些區(qū)域中所剩下的只是膠片的透明片基。

導(dǎo)致的原因較多，通常考慮UV光是否正常，即曝光機(jī)是否工作正常。

預(yù)烘烤時(shí)間過長也會(huì)導(dǎo)致顯影不凈。

蝕刻液有問題或濃度較低等等都會(huì)導(dǎo)致時(shí)刻不凈。

總之就是從兩方面考慮：油墨有問題，顯影液正常；油墨沒問題顯影液異常；或者兩者都異常。

板子過顯影線的線速（即顯影時(shí)間）通常會(huì)影響，線速過快就會(huì)顯影不凈。

用肉眼一般也看得出來，也可以用低倍目鏡看。


曝光不足時(shí)，由于聚合不徹底，在顯影過程中，膠膜溶脹變軟，導(dǎo)致線條不清晰甚至膜層脫落，造成膜與銅結(jié)合不良；若曝光過度，會(huì)造成顯影困難，也會(huì)在電鍍過程中產(chǎn)生起翹剝離，形成滲鍍。同時(shí)在批量生產(chǎn)時(shí)，還應(yīng)該注意當(dāng)紫外光管長期運(yùn)行過程中，產(chǎn)生溫升，熱輻射量大，在底片下的干膜上發(fā)生類似與紫外線照射為類似作用，使干膜聚合，也稱熱聚合反應(yīng)。為此，這就要求曝光機(jī)應(yīng)有冷卻裝置。

如果是全制程的話那需要的設(shè)備可多了,什么曝光機(jī),顯影機(jī),蝕刻線,壓機(jī),回流線,磨邊機(jī),切割機(jī),溶膠機(jī),鉆孔機(jī),電鍍線。

如果是做加工這個(gè)制程的話那就需要前處理,是金剛砂那種,化金線,鍍金線.有些廠成型也屬于加工,那就需要成型機(jī),v-cut,斜邊機(jī),如果是沖模的話那需要沖床機(jī).

這些設(shè)備如果需要的話你可以到PCB采購指南上尋找,或者到PCB信息網(wǎng)上,但此網(wǎng)上不是很全。