公司產品包括石英掩膜版，蘇打掩膜版，以及菲林版。蘇州制版根據(jù)客戶的構想、草圖，定制版圖，蘇州制版提供高質量掩膜版以及后期的代加工服務！

用選定的圖像、圖形或物體，對處理的圖像（全部或局部）進行遮擋，來控制圖像處理的區(qū)域或處理過程。用于覆蓋的特定圖像或物體稱為掩?；蚰０?。光學圖像處理中,掩模可以是膠片、濾光片等。數(shù)字圖像處理中,掩模為二維矩陣數(shù)組,有時也用多值圖像。

待加工的掩膜版由玻璃/石英基片、鉻層和光刻膠層構成。其圖形結構可通過制版工藝加工獲得，常用加工設備為直寫式光刻設備，如激光直寫光刻機、電子束光刻機等。

掩膜版應用十分廣泛，在涉及光刻工藝的領域都需要使用掩膜版，如IC（Integrated Circuit，集成電路）、FPD（Flat Panel Display，平板顯示器）、PCB（Printed Circuit Boards，印刷電路板）、MEMS（Micro Electro Mechanical Systems，微機電系統(tǒng)）等。刻蝕或離子注入完成后，將進行光刻的后一步，即將光刻膠去除，以方便進行半導體器件制造的其他步驟。

掩膜（MASK）就是指單片機設計掩膜就是指程序流程統(tǒng)計數(shù)據(jù)早已制成光刻版，在單片機設計生產制造的全過程中把程序流程做進來?？景鏁r還要注意：①烤版箱內的紅外燈管一定要橫向排列，如縱向排列，往往導致印版瓦楞狀變形而影響使用。優(yōu)勢是：程序流程靠譜、低成本。缺陷：大批量規(guī)定大，每一次改動程序流程就必須再次做光呆板，不一樣程序流程不可以一起生產制造，交貨期長。 

選定的圖像、圖形或對象用于阻擋已處理的圖像(全部或部分)，以控制圖像處理區(qū)域或過程。用于覆蓋的特定圖像或對象稱為遮罩或模板。在光學圖像處理中，掩模可以是薄膜、濾光器等。在數(shù)字圖像處理中，掩模是二維矩陣陣列，有時也使用多值圖像。