公司產(chǎn)品包括石英掩膜版，蘇打掩膜版，以及菲林版。蘇州制版根據(jù)客戶(hù)的構(gòu)想、草圖，定制版圖，蘇州制版提供高質(zhì)量掩膜版以及后期的代加工服務(wù)！

光刻掩模版通常用石英玻璃做為化學(xué)反應(yīng)，選用方解石是因?yàn)槠涞慕贤饩€(xiàn)穿透率。掩模版遮光一部分用Cr，因此有時(shí)候也叫鉻板。選用燈的g線(xiàn)應(yīng)i線(xiàn)，在于你常用的光刻膠，每個(gè)光刻膠產(chǎn)品介紹都是列舉其所比較敏感的納米段。 

標(biāo)定板圖紙內(nèi)容如下：

1.   需要附上材料

2.   精度

3.   外形尺寸公差，厚度

4.   制作效果圖紙：正負(fù)板之分等。（如果考慮價(jià)格因素，需要強(qiáng)調(diào)多少倍率下面允許看到瑕疵）

5.   需要提供詳細(xì)的CAD圖紙（圖紙i好不要畫(huà)比例圖紙）。以上為制作標(biāo)定板完整信息

掩膜（MASK）就是指單片機(jī)設(shè)計(jì)掩膜就是指程序流程統(tǒng)計(jì)數(shù)據(jù)早已制成光刻版，在單片機(jī)設(shè)計(jì)生產(chǎn)制造的全過(guò)程中把程序流程做進(jìn)來(lái)。優(yōu)勢(shì)是：程序流程靠譜、低成本。光刻工藝是半導(dǎo)體器件制造工藝中的一個(gè)重要步驟，利用曝光和顯影在光刻膠層上刻畫(huà)器件結(jié)構(gòu)，再通過(guò)刻蝕工藝將掩膜上的圖形轉(zhuǎn)換到襯底上。缺陷：大批量規(guī)定大，每一次改動(dòng)程序流程就必須再次做光呆板，不一樣程序流程不可以一起生產(chǎn)制造，交貨期長(zhǎng)。 

選定的圖像、圖形或?qū)ο笥糜谧钃跻烟幚淼膱D像(全部或部分)，以控制圖像處理區(qū)域或過(guò)程。用于覆蓋的特定圖像或?qū)ο蠓Q(chēng)為遮罩或模板。在光學(xué)圖像處理中，掩?？梢允潜∧?、濾光器等。在數(shù)字圖像處理中，掩模是二維矩陣陣列，有時(shí)也使用多值圖像。