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發(fā)布時(shí)間：2020-11-12 13:54

政策扶持

為促進(jìn)我國(guó)光刻膠產(chǎn)業(yè)的發(fā)展，國(guó)家02重大專(zhuān)項(xiàng)給予了大力支持。今年5月，02重大專(zhuān)項(xiàng)實(shí)施管理辦公室組織任務(wù)驗(yàn)收專(zhuān)家組、財(cái)務(wù)驗(yàn)收專(zhuān)家組通過(guò)了“極紫外光刻膠材料與實(shí)驗(yàn)室檢測(cè)技術(shù)研究”項(xiàng)目的任務(wù)驗(yàn)收和財(cái)務(wù)驗(yàn)收。

據(jù)悉，經(jīng)過(guò)項(xiàng)目組全體成員的努力攻關(guān)，完成了EUV光刻膠關(guān)鍵材料的設(shè)計(jì)、制備和合成工藝研究、配方組成和光刻膠制備、實(shí)驗(yàn)室光刻膠性能的初步評(píng)價(jià)裝備的研發(fā)，達(dá)到了任務(wù)書(shū)中規(guī)定的材料和裝備的考核指標(biāo)。下游發(fā)展趨勢(shì)光刻膠的質(zhì)量和性能是影響集成電路性能、成品率及可靠性的關(guān)鍵因素。項(xiàng)目共申請(qǐng)發(fā)明專(zhuān)利15項(xiàng)（包括國(guó)際專(zhuān)利5項(xiàng)），截止到目前，共獲得授權(quán)專(zhuān)利10項(xiàng)（包括國(guó)際專(zhuān)利授權(quán)3項(xiàng)）。

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5,顯影液

在已經(jīng)曝光的硅襯底膠面噴淋顯影液，或?qū)⑵浣菰陲@影液中，正膠是曝光區(qū)、而負(fù)膠是非曝光區(qū)的膠膜溶入顯影液，膠膜中的潛影顯現(xiàn)出來(lái)，形成三維圖像。

顯影完成后通常進(jìn)行工藝線(xiàn)的顯影檢驗(yàn)，通常是在顯微鏡下觀(guān)察顯影效果，顯影是否徹底、光刻膠圖形是否完好。

影響顯影的效果主要因素：

1，曝光時(shí)間，2前烘溫度和時(shí)間，3光刻膠膜厚，4顯影液濃度溫度，5顯影液的攪動(dòng)情況。