光刻膠市場

我國光刻膠市場規(guī)模2015年已達51.7億元，同比增長11%，高于國際市場增速，但全球占比仍不足15%，發(fā)展空間巨大。2015年我國光刻膠產量為9.75萬噸，而需求量為10.12萬噸，依照需求量及產量增速預計，未來仍將保持供不應求的局面。光刻膠是整個光刻工藝的重要部分，也是國際上技術門檻較高的微電子化學品之一，主要應用在集成電路和平板顯示兩大產業(yè)。據智研咨詢估計，得益于我國平面顯示和半導體產業(yè)的發(fā)展，我國光刻膠市場需求，在2022年可能突破27.2萬噸。在光刻膠生產種類上，我國光刻膠廠商主要生產PCB光刻膠，而LCD光刻膠和半導體光刻膠生產規(guī)模較小，相關光刻膠主要依賴進口。放眼國際市場，光刻膠也主要被美國Futurrex 的光刻膠、日本合成橡膠（JSR）、東京應化（TOK）、住友化學、美國杜邦、德國巴斯夫等化工寡頭壟斷。

光刻膠國內研發(fā)現狀

“造成與國際水平差距的原因很多。依照化學反應和顯影原理分類，光刻膠可以分為正性光刻膠和負性光刻膠。過去由于我國在開始規(guī)劃發(fā)展集成電路產業(yè)上，布局不合理、不完整，特別是生產加工環(huán)節(jié)的投資，而忽視了重要的基礎材料、裝備與應用研究。目前，整個產業(yè)是中間加工環(huán)節(jié)強，前后兩端弱，核心技術至今被TOK、JSR、住友化學、信越化學等日本企業(yè)所壟斷。

光刻膠的主要技術指標有解析度、顯影時間、異物數量、附著力、阻抗等。每一項技術指標都很重要，必須全部指標達到才能使用。因此，國外企業(yè)在配方、生產工藝技術等方面，對中國長期保密。中國的研發(fā)技術有待進一步發(fā)展

PR1-1500A1RR5光刻膠公司

正性光刻膠的金屬剝離技術

美國Futurre光刻膠

30．想請教國產光刻膠不能達到膜厚要求，進口的有沒有比較好的光刻膠??？

都可以??！goodpr是大陸比較多公司采用的，

但是Futurre 光刻膠在國外是比較有名氣的，包括很多大型企業(yè)都有用，膜厚做的也

比較厚從18um-200um都 可以做到，看你對工藝的要求了。

光刻膠品牌FUTURRE光刻膠產品屬性：

1  FUTURRE光刻膠產品簡要描述及優(yōu)勢:

1.1   Futurre光刻膠黏附性好，無需使用增粘劑（HMDS）

1.2  負性光刻膠常溫下可保存3年

1.3  150度烘烤，縮短了烘烤時間

1.4  單次旋涂能夠達到100um膜厚

1.5  顯影速率快，100微米的膜厚，僅需6~8分鐘