PVD基本方法：真空蒸發(fā)、濺射、離子鍍（空心陰極離子鍍、熱陰極離子鍍、電弧離子鍍、活性反應(yīng)離子鍍、射頻離子鍍、直流放電離子鍍），以下介紹幾種常用的方法。電子束蒸發(fā)電子束蒸發(fā)是利用聚焦成束的電子束來加熱蒸發(fā)源，使其蒸發(fā)并沉積在基片表面而形成薄膜。特征：真空環(huán)境；蒸發(fā)源材料需加熱熔化；基底材料也在較高溫度中；用磁場控制蒸發(fā)的氣體，從而控制生成鍍膜的厚度。濺射沉積濺射是與氣體輝光放電相聯(lián)系的一種薄膜沉積技術(shù)。濺射的方法很多，有直流濺射、RF濺射和反應(yīng)濺射等

清洗是通過化學(xué)或(及)物理的方法將工件上的油污、銹跡、灰塵等去除干凈，確保工件獲得較好的涂層結(jié)合力和生產(chǎn)的順利進(jìn)行。清洗是PVD涂層前必不可少的一道工序，也是PVD涂層生產(chǎn)中zui重要的工藝，清洗出了問題，涂層生產(chǎn)不得不延遲、涂層過程可能中斷、或涂層結(jié)合力出現(xiàn)問題而導(dǎo)致客戶投訴和賠償，尤其是在涂層設(shè)備的技術(shù)能力不高的情況下，清洗出了問題，更容易發(fā)生上述風(fēng)險。有四個因素影響著清洗的質(zhì)量，分別為：清洗時間、化學(xué)藥劑、機械作用以及清洗液溫度，這四個因素之間也相互影響，一個因素的減弱，可以通過增強另外三個因素的作用來彌補，反之亦然。

主要工藝：目前，物理氣相沉積（PVD）技術(shù)主要包括真空陰極弧物理蒸發(fā)、真空磁控離子濺射、離子鍍以及增強濺射四種。①陰極弧物理蒸發(fā)（ARC）：真空陰極弧物理蒸發(fā)過程包括將高電流，低電壓的電弧激發(fā)于靶材之上，并產(chǎn)生持續(xù)的金屬離子。被離化的金屬離子以60-100eV平均能量蒸發(fā)出來形成高度激發(fā)的離子束，在含有惰性氣體或反應(yīng)氣體的真空環(huán)境下沉積在被鍍工件表面。真空陰極弧物理蒸發(fā)靶材的離化率在90%左右，所以與真空磁控離子濺射相比，沉積薄膜具有更高的硬度和更好的結(jié)合力。

在鋅液中添加鋅鎳合金可有效地降低鋅和鐵原子在ζ相中的擴散速度，因而可以控制浸鍍層厚度的增長，當(dāng)鋅液中Ni含量為0.06%時，Ni含量可達(dá)0.8%，加入Ni后厚度增長明顯得到控制，因而可有效地控制浸鍍層厚度的增長，并能改善鋅液的流動性能。因此，使用鋅鎳合金進(jìn)行熱浸鍍鋅的鍍層厚度更加均勻，表面更光亮，鋅花少。

總之，熱鍍鋅后帶鋼表面缺陷情況較復(fù)雜，產(chǎn)生的原因也較多，解決辦法是多方面的，需要做大量艱若細(xì)致的工作，使熱鍍技木提高一步。