真空鍍膜設(shè)備的正常工作條件

真空鍍膜設(shè)備主要指一類(lèi)需要在較高真空度下進(jìn)行的鍍膜，具體包括很多種類(lèi)，包括真空離子蒸發(fā)，磁控濺射，MBE分子束外延，PLD激光濺射沉積等很多種。

那么，真空鍍膜設(shè)備的正常工作條件有哪些？我們一起來(lái)看看吧：

1、環(huán)境溫度：10~30℃

2、相對(duì)濕度：不大于70%

3、冷卻水進(jìn)水溫度：不高于25℃

4、冷卻水質(zhì)：城市自來(lái)水或質(zhì)量相當(dāng)?shù)乃?

5、供電電壓：380V，三相50Hz或220V，單相50Hz（由所用電器需要而定），電壓波動(dòng)范圍342~399V或198V~231V，頻率波動(dòng)范圍49~51Hz；

6、設(shè)備所需的壓縮空氣、液氮、冷熱水等壓力、溫度、消耗量均應(yīng)在產(chǎn)品使用說(shuō)明書(shū)上寫(xiě)明。

7、設(shè)備周?chē)h(huán)境整潔、空氣清潔，不應(yīng)有可引起電器及其他金屬件表面腐蝕或引起金屬間導(dǎo)電的塵?；驓怏w存在。

此外，真空鍍膜設(shè)備所在實(shí)驗(yàn)室或車(chē)間應(yīng)保持清潔衛(wèi)生。而且地面為水磨石或木質(zhì)涂漆地面、無(wú)塵埃。為防止機(jī)械泵工作時(shí)排出的氣體對(duì)實(shí)驗(yàn)室環(huán)境的污染，可采用在泵的排氣口上面裝設(shè)排氣管道（金屬、橡膠管）的辦法，將氣體排出室外。

真空鍍膜機(jī)鍍膜技術(shù)和濕式鍍膜技術(shù)

隨著科學(xué)技術(shù)的發(fā)展，真空鍍膜技術(shù)成為了各行各業(yè)提高產(chǎn)品質(zhì)量的手段，真空鍍膜所需費(fèi)用較低經(jīng)濟(jì)效益顯著讓越來(lái)越多的企業(yè)躍躍欲試，我國(guó)生產(chǎn)的真空鍍膜機(jī)已經(jīng)達(dá)到了相當(dāng)水平，可以鍍制的真空鍍膜材料也越來(lái)越多，但和國(guó)外的設(shè)備對(duì)比也存在著一點(diǎn)差距，對(duì)于真空技術(shù)的研發(fā)有待提高。

真空鍍膜技術(shù)的膜材選材廣泛，可以控制膜的厚度并鍍制不同功能和性能的薄膜，就能使材料具備許多新的化學(xué)和物理性能。濕式鍍膜技術(shù)是過(guò)去的一種鍍膜方式，即化學(xué)鍍或者電鍍，是應(yīng)用化學(xué)還原的原理沉積在材料上，這種方法會(huì)產(chǎn)生廢液污染環(huán)境，以往很多電鍍?cè)O(shè)備廠因?yàn)槲廴締?wèn)題紛紛轉(zhuǎn)變鍍膜工藝。

真空鍍膜技術(shù)鍍制的薄膜，膜層不易受到污染，在真空環(huán)境中可以提高純度和致密性，不產(chǎn)生廢液不污染環(huán)境。真空鍍膜本身污染，但是實(shí)際鍍制中會(huì)用到有機(jī)涂料，所以也會(huì)產(chǎn)生污染，然而相比濕式電鍍技術(shù)，污染小很多，真空鍍膜技術(shù)生產(chǎn)具有很強(qiáng)的生命力，但也不是說(shuō)真空鍍膜技術(shù)就可以完全取代傳統(tǒng)的濕式鍍膜技術(shù)了，在膜層的厚度，耐老化上濕式鍍膜法仍然占據(jù)優(yōu)勢(shì)，真空鍍膜鍍制的膜層比較薄。

另外，牢固的膜層是受工藝和附著力所影響，不管是真空鍍膜技術(shù)還是濕式鍍膜技術(shù)，如果材料表面沒(méi)有清潔干凈都會(huì)影響膜層和材料的結(jié)合。

真空鍍膜設(shè)備選購(gòu)要點(diǎn)分析

真空鍍膜設(shè)備選購(gòu)要點(diǎn)分析如下：

1、爐體可選擇由不銹鋼、碳鋼或它們的組合制成的雙層水冷結(jié)構(gòu)。

2、根據(jù)工藝要求選擇不同規(guī)格及類(lèi)型的鍍膜設(shè)備，其類(lèi)型有電阻蒸發(fā)、電子束蒸發(fā)、磁控濺射、磁控反應(yīng)濺射、離子鍍、空心陰極離子鍍、多弧離子鍍等。

3、夾具運(yùn)轉(zhuǎn)形式有自轉(zhuǎn)、公轉(zhuǎn)及公轉(zhuǎn) 自轉(zhuǎn)方式，用戶可根據(jù)基片尺寸及形狀提出相應(yīng)要求，轉(zhuǎn)動(dòng)的速度范圍及轉(zhuǎn)動(dòng)精度：普通可調(diào)及變頻調(diào)速等。

4、真空系統(tǒng)由機(jī)械泵、擴(kuò)散泵、油增壓泵、增擴(kuò)泵、羅茨泵、堝輪分子泵等及與它們相匹配的各種氣動(dòng)、手動(dòng)、電動(dòng)閥門(mén)、管道等組成。

5、根據(jù)工藝要求選擇鍍制方式及形式，如電阻蒸發(fā)（鎢絲、鉬舟、石墨舟）磁控源（同軸圓柱型磁控源、園柱型平面磁控源、矩型平面磁控源等）以靶材材質(zhì)及尺寸多弧源（Ф60，Ф80直徑靶材，氣動(dòng)、電動(dòng)的引弧等），真空測(cè)量可選擇數(shù)字式智能真空計(jì)及其的測(cè)量規(guī)管，及其它測(cè)量?jī)x器，如自動(dòng)壓強(qiáng)控制儀等。膜厚測(cè)量可選用方塊電阻測(cè)量?jī)x，透過(guò)率計(jì)等。

6、充氣方式可選用質(zhì)量流量計(jì)、浮子流量計(jì) 針閥及相應(yīng)的充氣閥門(mén)，并可選擇多路充氣管路及相應(yīng)流量參數(shù)。

7、根據(jù)需烘烤的結(jié)構(gòu)提出烘烤溫度、材質(zhì)以及所需配備相應(yīng)儀表測(cè)量。

8、根據(jù)設(shè)備使用特點(diǎn)，可選擇手動(dòng)、半自動(dòng)、全自動(dòng)或其組合的控制方式。

9、完善的報(bào)警系統(tǒng)，對(duì)真空室體、擴(kuò)散泵斷相、缺水、氣壓、電源負(fù)載的過(guò)壓、過(guò)流等異常情況進(jìn)行聲光報(bào)警。

真空鍍膜機(jī)磁流體密封組件的安裝

真空鍍膜機(jī)磁流體密封組件的安裝與使用:密封組件安裝與使用時(shí)應(yīng)注意注意被裝的密封組件與軸的同軸度要求、磁流體的注入量應(yīng)適當(dāng)、安裝前既應(yīng)對(duì)組件進(jìn)行必要的真空清洗處理、密封組件泄漏時(shí)檢查：

1、注意被裝的密封組件與軸的同軸度要求，借以保證密封間隙具有較小的偏心量。

2、磁流體的注入量應(yīng)適當(dāng)，在保證各級(jí)密封間隙中具有足夠量的前提下，不可過(guò)多地注入磁流體，以防抽空時(shí)多余的磁流體進(jìn)入真空室內(nèi)，污染真空室。

3、安裝前既應(yīng)對(duì)組件進(jìn)行必要的真空清洗處理，又應(yīng)注意防止乙醇等清洗劑滴入磁流體密封組件內(nèi)，以免引起密封組件的失效。

4、如發(fā)現(xiàn)密封組件泄漏時(shí)應(yīng)從如下幾點(diǎn)進(jìn)行查找：a、磁流體是否失效；b、連接法蘭與組件內(nèi)靜密封圈是否受到損壞；c、極齒齒型是否與轉(zhuǎn)軸接觸產(chǎn)生干摩擦；d、轉(zhuǎn)軸與密封組件是否連接不當(dāng)產(chǎn)生同軸度移位；e、磁鐵是否退磁等。