曝光，是指被攝影物體發(fā)出或反射du的光線，通過照相機鏡頭投射zhi到感光片上，使之發(fā)生化學變化，產生顯dao影的過程。在攝影中，曝光就是光圈和快門的組合。

總結以上幾個名詞解釋，有三個因素能影響一張圖片是否正確曝光：光圈，快門速度，ISO（感光度）。其中光圈和速度聯(lián)合決定進光量，ISO決定ISOCCD/CMOS的感光速度。如果進光量不夠，我們可以開大光圈或者降低快門速度，還是不夠的話就提高感光度(ISO)。大光圈的缺點是解像度不如中等光圈，快門速度降低則圖片可能會糊，提高ISO后圖片質量也會下降 。沒有的方案，如何取舍要靈活決定。

顯影液的成分與功能.一般顯影液由顯影劑、保護劑、促進劑和抑zhi制劑組成.顯影劑 米妥爾：顯影速度快,反差小,受溫度影響小.對本二酚：顯影緩和,反差大,受溫度影響大.菲尼酮：損耗低,用量小,易保存,易產生灰霧.保護劑：無水亞硫酸鈉 在顯影液中Na2SO先與氧氣化合,防止了顯影劑的氧化,且有溶解銀鹽的的作用,有微粒效果.促進劑：無水碳酸鈉.在顯影中它能產生酸性物質xiu氫酸,起到妨礙顯影劑的作用,故用Na 2SO 3增加堿性.

干膜顯影性不良，超期使用。上述已講過光致抗蝕干膜，其結構有三部分構成：聚酯薄膜、光致抗蝕劑膜及聚乙烯保護膜。在紫外光照射下，干膜與銅箔板表面之間產生良好的粘結力，起到抗電鍍和抗蝕刻的作用。圖形電鍍過程中，引起的滲鍍的原因分析如下：圖形轉移是制造高密度多層板的關鍵控制點bai，也是技術難點，其質量的優(yōu)劣直接影響多層板的合格率。