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電子束蒸發(fā)真空鍍膜機應用及特點
真空鍍膜機已經廣泛運用到我們的生活中,以前物件鍍上一層一層的膜是為了延長壽命,防止腐蝕。然而隨著人民的生活質量不斷的提升,對于物件外表的膜層不僅僅只是停留在延長使用壽命上,同時更多關注物件的外觀是否絢麗美觀。真空鍍膜機在日常生活中運用無處不在,使用的行業(yè)不一樣,鍍的產品不一樣,鍍膜機的型號是不相同的。今天至成真空小編為大家介紹一下電子束蒸發(fā)真空鍍膜機應用及特點。
首先簡單為大家介紹一下蒸發(fā)系列卷繞真空鍍膜機,它主要用于在塑料、布、紙、金屬箔等帶狀材料表面真空蒸鍍金屬膜。產品廣泛用于包裝、印刷、防偽、紡織、電子工業(yè)等領域。本系列設備具有運行平穩(wěn)、收放鍍膜平齊、膜層均勻、生產周期短、能耗低、操作維護方便、性能穩(wěn)定等特點
電子束蒸發(fā)真空鍍膜機真空鍍膜是將固體材料置于真空室內,在真空條件下,將固體材料加熱蒸發(fā),蒸發(fā)出來的原子或分子能自由地彌布到容器的器壁上。當把一些加工好的基板材料放在其中時,蒸發(fā)出來的原子或分子就會吸附在基板上逐漸形成一層薄膜。真空鍍膜有兩種方法,一是蒸發(fā),一是濺射。在真空中把制作薄膜的材料加熱蒸發(fā),使其淀積在適當?shù)谋砻嫔稀?
那么電子束蒸發(fā)鍍膜機的結構特點有哪些呢?
(1)卷饒系統(tǒng)采用支流或交流變頻調速,具有運行平穩(wěn)、速度高、對原卷材不劃傷、不折皺,收卷端面征集等特點;
(2)張力控制采用進口數(shù)字張力控制系統(tǒng),具有張力、線速度恒定,動作快速的特點;
(3)各組送絲由微機電機獨立控制,可總調或單獨調速,并有速度顯示;
(4)真空系統(tǒng)配置精良,抽氣速度快,采用PLC控制;
(5)配備大功率電源,鍍膜,膜層均勻性好。
雙色真空鍍膜機PVD技術的應用范圍及優(yōu)缺點
很多人對真空鍍膜機PVD技術的了解不是特別全,也不知道具體是應用到哪些行業(yè),以及它在實際運用過程有哪些優(yōu)缺點?至成真空小編現(xiàn)在詳細和大家介紹一下:
真空鍍膜機PVD技術其應用范圍是:
1)碳鋼、合金鋼、不銹鋼及鈦合金等金屬材料;
2)金屬材料的表面硬度至少需要在HV170以上。
真空鍍膜機PVD技術其優(yōu)點是:
與傳統(tǒng)磁控濺射單色PVD技術相比,雙色PVD工藝更為復雜,流程更為繁雜,生產難度高,但外觀效果,兩種顏色的表面硬度都在HV600以上。傳統(tǒng)磁控濺射單色PVD技術要在實現(xiàn)雙色效果,采取的工藝措施是在整體PVD單色的基礎上把需要實現(xiàn)另一種顏色的區(qū)域激光鐳雕掉或者磨掉。新加工出來的區(qū)域就只能表現(xiàn)金屬的本色,表面硬度也就是金屬本身的表面硬度---HV200左右(而PVD后的表面硬度為HV600以上)。
專業(yè)磁控濺射真空鍍膜機設備用途:
專業(yè)磁控濺射真空鍍膜機設備用途:主要用于太陽能電池鈣鈦礦、OLED和PLED、半導體制備等實驗研究與應用。磁控濺射包括很多種類。各有不同工作原理和應用對象。專業(yè)磁控濺射生產但有一共同點:利用磁場與電場交互作用,使電子在靶表面附近成螺旋狀運行,從而增大電子撞擊Ar氣產生離子的概率。所產生的離子在電場作用下撞向靶面從而濺射出靶材。靶源分平衡和非平衡式,平衡式靶源鍍膜均勻,非平衡式靶源鍍膜膜層和基體結合力強。平衡靶源多用于半導體光學膜,非平衡多用于磨損裝飾膜。磁控陰極按照磁場位形分布不同,大致可分為平衡態(tài)和非平衡磁控陰極。專業(yè)磁控濺射生產平衡態(tài)磁控陰極內外磁鋼的磁通量大致相等,兩極磁力線閉合于靶面,很好地將電子/等離子體約束在靶面附近,增加碰撞幾率,提高了離化效率,因而在較低的工作氣壓和電壓下就能起輝并維持輝光放電。
真空電弧離子鍍膜技術
真空電弧離子鍍膜技術不僅能在金屬制品表面進行鍍膜而且能在非金屬制品表面上進行鍍膜;可以鍍金屬膜,氮化鈦、碳化鈦、氮化鋯、氮化鉻及鎳、鉻、銅等化合物膜、多層超硬膜、多元化合物膜,還可以鍍氮化鈦摻金膜等。電弧離子鍍膜廣泛應用于工具、模具的超硬涂層,汽車輪轂、高爾夫球具、鐘表、酒店用品、衛(wèi)浴潔具、燈具、眼鏡鏡架、五金制品、陶瓷和玻璃等的裝飾涂層等領域。真空鍍膜機鍍膜技術及設備在當今和未來都擁有十分廣闊的應用領域和發(fā)展前景,特別是在制造大規(guī)模集成電路的電學膜;在數(shù)字式縱向與橫向均可磁化的數(shù)據(jù)紀錄儲存膜;在能充分展示和應用各種光學特性的光學膜;在計算機顯示用的感光膜;在TFT、PDP平面顯示器上的導電膜和增透膜;在建筑、汽車行業(yè)上應用的玻璃鍍膜和裝飾膜;在包裝領域用防護膜、阻隔膜;在裝飾材料上具有各種功能裝飾效果的功能膜;在工、模具上應用的耐磨超硬膜:在納米材料研究方面的各種功能性薄膜等等都是真空鍍膜技術及設備在廣泛應的基礎上得到的不斷發(fā)展的領域。