手機納米液離子鍍膜的工作原理

離子鍍膜機主要指一類需要在較高真空度下進行的鍍膜，具體包括很多種類，包括真空蒸發(fā)鍍膜機、真空多弧離子鍍膜機、真空中頻磁控濺射鍍膜機、多功能中頻磁控濺射多弧復(fù)合離子鍍膜機、真空光學(xué)(電子束蒸發(fā))鍍膜機等系列真空鍍膜設(shè)備，主要思路是分成蒸發(fā)和濺射兩種。

離子濺射鍍膜，多半是在反應(yīng)氣體存在下進行的，化合物沉積膜的穩(wěn)定性和光學(xué)常數(shù)，依賴于氣體的類型和陰極材料。常用的反應(yīng)氣體為氧氣，常用的陰極材料有鐵、鎳、銅鉛等，有時電剛金、鉑、鈀、銦和其他金屬。反應(yīng)濺射形成的氧化物是屬于有吸收而折射率不是很高的鍍膜材料。

鍍膜前后的效果有哪些區(qū)別

沒有做涂層時的問題：(1)鏡面很容易亂花，甚至做表面清潔時用柔軟的紙巾擦拭也會亂花(2)使用不到半個月鏡面就亂花或變霧(3)反復(fù)多次拆卸拋光，不僅成本高昂，而且嚴重影響生產(chǎn)效率，甚至無法正常交貨給客人

通過鏡面塑膠模具涂層鍍膜設(shè)備鍍膜后：(1)鏡面完全沒有受損：光亮度沒有下降、沒有產(chǎn)生小白點或其它花紋等(2)由于涂層后表面硬度的提高，在做模具保養(yǎng)時，用紙巾擦拭，甚至手碰到模具，都不用擔心表面亂花(3)使用時間提高到半年，甚至1年以上(4)在涂層磨損后，仍然可以褪去涂層，再拋光重鍍再使用(5)無論生產(chǎn)效率，還是成本效益，都取得了很好的收益

影響鍍真空鍍膜機為塑料件鍍膜時抽真空時間長的原因

影響鍍真空鍍膜機為塑料件鍍膜時抽真空時間長的原因磁控靶點火電壓的幾個因素 在工作氣體種類、成分、氣壓和陰極材料已確定及其它條件不變的條件下，鍍膜機陰-陽兩極間的氣體放電點火電壓的高低可由巴-刑定律來說明，氣體點燃電壓Uz不僅和氣壓P、極間距d有關(guān)，而且和P與d的乘積有關(guān)(即Uz是P×d乘積的函數(shù)，不是單獨是P或d的函數(shù))。巴-刑曲線的左側(cè)與下側(cè)是不能形成自持放電區(qū)域;右上側(cè)是可以形成穩(wěn)定自持放電區(qū)域;磁控濺射通常工作在巴-刑曲線的左支。利用這個規(guī)律，在放電部件(磁控靶、引出電極等)的結(jié)構(gòu)設(shè)計中，通過調(diào)整結(jié)構(gòu)間隙的手段來控制各電極對屏蔽罩、金屬腔體間的放電和打弧。