真空鍍膜機鍍前預處理和鍍后處理方法

一、鍍前預處理

鍍前預處理的目的是為了得到干凈新鮮的金屬表面，為后獲得高質量鍍層作準備，要進行脫脂、去銹蝕、去灰塵等工作。

步驟如下：

一：使表面粗糙度達到一定要求，可通過表面磨光、拋光等工藝方法來實現(xiàn)；

二：去油脫脂，可采用溶劑溶解以及化學、電化學等方法來實現(xiàn)；

三：除銹，可用機械、酸洗以及電化學方法除銹；

四：活化處理，一般在弱酸中侵蝕一定時間進行鍍前活化處理。

二、鍍后處理

1、鈍化處理

所謂鈍化處理是指在一定的溶液中進行化學處理，在鍍層上形成一層堅實致密的、穩(wěn)定性高的薄膜的表面處理方法.鈍化使鍍層耐蝕性大大提高并能增加表面光澤和抗污染能力。這種方法用途很廣，鍍Zn、Cu及Ag等后，都可進行鈍化處理。

2、除氫處理

有些金屬如鋅，在電沉積過程中，除自身沉積出來外，還會析出一部分氫，這部分氫滲入鍍層中，使鍍件產生脆性，甚至斷裂，稱為氫脆。為了消除氫脆，往往在電鍍后，使鍍件在一定的溫度下熱處理數小時，稱為除氫處理。

真空鍍膜機的結構與工作原理介紹

一、真空鍍膜機的結構：

真空卷繞鍍膜機由真空罐、真空抽氣系統(tǒng)、蒸發(fā)系統(tǒng)、卷繞系統(tǒng)、冷卻系統(tǒng)及電氣系統(tǒng)組成。

真空罐是整臺真空鍍膜設備的主體部件，其結構為圓柱形筒體，左端為圓形封頭封閉，右端的法蘭與卷繞車的大圓板對接實現(xiàn)密封。

外部聯(lián)接抽氣管道，內部空間用于在真空狀態(tài)中鍍制產品，分為上下室，上室是基材卷繞室，下室是鋁絲蒸發(fā)鍍膜室。

二、真空鍍膜機的工作原理：

真空罐的正面中上部裝有可供觀察基材運行情況和觀察鍍層質量的長方形觀察窗，正面中下部裝有可供觀察送絲情況和蒸發(fā)舟加熱狀態(tài)的長方形觀察窗，同時還裝有可供觀察收料軸、放料軸運轉狀況的圓形視窗各一個。

真空罐的背面中下部開有一方形的蒸發(fā)鍍膜室抽氣口，尾部圓封頭處開有一圓形的卷繞室抽氣口。真空罐的底部裝有水箱，用于罐體的冷卻，頂部裝有真空測量規(guī)管用于測量真空室內的壓力。

真空鍍膜機蒸發(fā)與磁控濺射鍍鋁性能

真空鍍膜機電子束蒸發(fā)與磁控濺射鍍鋁性能分析研究，為了獲得性能良好的半導體電極Al膜，我們通過優(yōu)化工藝參數，制備了一系列性能優(yōu)越的Al薄膜。通過理論計算和性能測試，分析比較了真空鍍膜設備電子束蒸發(fā)與磁控濺射兩種方法制備Al膜的特點。

嚴格控制發(fā)Al膜的厚度是十分重要的，因為Al膜的厚度將直接影響Al膜的其它性能，從而影響半導體器件的可靠性。對于高反壓功率管來說，它的工作電壓高，電流大，沒有一定厚度的金屬膜會造成成單位面積Al膜上電流密度過高，易燒毀。對于一般的半導體器件，Al層偏薄，則膜的連續(xù)性較差，呈島狀或網狀結構，引起壓焊引線困難，造成不易壓焊或壓焊不牢，從而影響成品率;Al層過厚，引起光刻時圖形看不清，造成腐蝕困難而且易產生邊緣腐蝕和“連條”現(xiàn)象。

采用真空鍍膜機電子束蒸發(fā)，行星機構在沉積薄膜時均勻轉動，各個基片在沉積Al膜時的幾率均等;行星機構的聚焦點在坩堝蒸發(fā)源處，各個基片在一定真空度下沉積速率幾乎相等。采用真空鍍膜機磁控濺射鍍膜方法，由于沉積電流和靶電壓可以控制，也即是濺射功率可以調節(jié)并控制，因此膜厚的可控性和重復性較好，并且可在較大表面上獲得厚度均勻的膜層。

附著力反映了Al膜與基片之間的相互作用力，也是保證器件經久耐用的重要因素。真空鍍膜設備濺射原子能量比蒸發(fā)原子能量高1-2個數量級。真空鍍膜機高能量的濺射原子沉積在基片上進行的能量轉換比蒸發(fā)原子高得多，產生較高的熱能，部分高能量的濺射原子產生不同程度的注入現(xiàn)象，在基片上形成一層濺射原子與基片原了相互溶合的偽擴散層，而且，在真空鍍膜設備成膜過程中基片始終在等離子區(qū)中被清洗，清除了附著力不強的濺射原子，凈化基片表面，增強了濺射原子與基片的附著力，因而濺射Al膜與基片的附著力較高。

真空鍍膜機的安裝

真空鍍膜機應安置于清潔而干燥的室內。鍍膜工作室的環(huán)境應是空氣清潔，設有空調設備，室溫一般在23~25℃之間，相對濕度為60%左右。

工作室溫度太高會影響抽速，溫度太低則機械泵難以起動。室內太潮濕會影響膜層質量。

由于大多數膜料都有不同程度的毒性，當鐘罩打開時會飛散在室內空氣中，因此在鐘罩附近應安裝抽風設備，以便在鐘罩打開時抽掉真空室內的有毒氣體與飛揚的碎屑。

鍍膜機應裝在靠墻處，但四周應留有檢修與操作空間，并有冷卻水源，水壓約為3個大氣壓。鍍膜機的防振要求不高，無需特殊機座，但必須安置平穩(wěn)，不應有振動。