真空電鍍機作業(yè)指導(dǎo)手冊真空電鍍機作業(yè)指導(dǎo)手冊

1.開機前檢查水路是否暢通.

2.檢查氣路是否暢通.

3.開啟電源,打開”維持泵”開關(guān),并觀查機器各部位是否運行順暢.

4.進入加熱過程.

溫州真空電鍍機價格5.完成加熱后進入生產(chǎn)狀態(tài).

6.生產(chǎn)時在關(guān)倉門前,檢查物料擺放是否符合要求,卻保不會碰撞.

7.生產(chǎn)過程中隨時觀查各部們運行情況及顯示屏和各種參數(shù)指標.

8.工藝完成后,要輕開倉門,手拉倉門直至停穩(wěn).

9.停機時將真空門吸合,抽至一定的真空,關(guān)閉除”停機”外所有開關(guān).

10.待真空電鍍機冷卻至所需溫度時,方可關(guān)閉電源,空壓機,冷確塔,維持泵.

真空電鍍機使用范圍

真空電鍍機設(shè)備應(yīng)用廣泛，真空蒸發(fā)鍍膜主要有汽車反光網(wǎng)、工藝品、首飾、鞋帽、鐘表、燈具、裝飾、手機、DVD、MP3、PDA外殼、按鍵、化妝品外殼、玩具、圣誕禮品等行業(yè)；PVC、尼龍、金屬、玻璃、陶瓷、TPU等。

真空電鍍機維修注意事項

真空多弧離子鍍膜設(shè)備跟真空磁控濺射鍍膜設(shè)備可對各種金屬進行表面鍍膜.例如:鐘表行業(yè)(表帶、表殼、表盤等)、五金行業(yè)（衛(wèi)生潔具、門把手、拉手、門鎖等）、建筑行業(yè)（不銹鋼板、樓梯扶手、立柱等）、精密模具業(yè)（沖棒標準件模具、成型模具等）、工具行業(yè)（鉆頭、硬質(zhì)合金、銑刀、拉刀、刀頭）、汽車工業(yè)（活塞、活塞環(huán)、合金輪轂等）以及鋼筆、眼鏡等等。

真空電鍍機操作注意事項

左旋鈕“1”順時針旋轉(zhuǎn)至指向2區(qū)段的加熱位置。

低真空表“2”內(nèi)指針順時針移動，當指針移動至110mA時，左旋鈕'1'旋轉(zhuǎn)至指向2區(qū)段測量位置。

當?shù)驼婵毡怼?”內(nèi)指針再次順時針移動至6.7Pa時，低壓閥推入。這時左旋鈕“1”旋轉(zhuǎn)至指向1區(qū)段測量位置。

真空鍍膜機開通冷卻水，啟動擴散泵，加熱40min。

低壓閥拉出。重復(fù)一次⑦動作程序：左下旋鈕“1”轉(zhuǎn)至指向2區(qū)段測量位置。低真空表“2”內(nèi)指針順時針移動，當指針移動至6.7Pa時，開高壓閥（閥桿順時針旋轉(zhuǎn)）。

等低真空表“2”內(nèi)指針右移動至0.1Pa時，開規(guī)管燈絲開關(guān)。

發(fā)射、零點測量鈕“9”旋轉(zhuǎn)至指向發(fā)射位置。

左下旋鈕“1”旋轉(zhuǎn)至指向1區(qū)段測量位置。

旋轉(zhuǎn)發(fā)射調(diào)節(jié)鈕“4”，使高壓真空表“5”內(nèi)指針指向5。

發(fā)射、零點、測量旋鈕“9”旋轉(zhuǎn)至指向零點位置。

旋轉(zhuǎn)零點調(diào)節(jié)鈕“10”，讓高壓真空表“5”內(nèi)指針指向0位置。

發(fā)射、零點、測量旋鈕“9”旋轉(zhuǎn)至指向測量位置。

旋轉(zhuǎn)標準調(diào)節(jié)鈕“3”，讓高壓真空表“5”內(nèi)指針指向10。

旋轉(zhuǎn)“倍加器”開關(guān)鈕“8”至指向10-12，當高壓真空表“5”內(nèi)指針逆時針左移超過1時，再把“倍加器”開關(guān)旋鈕“8”旋轉(zhuǎn)至指向10-3。

主要的鍍膜濺射方式有哪些？

磁控濺射鍍膜設(shè)備在目前鍍膜行業(yè)中是一種不可缺少的鍍膜器材，目前大部分鍍膜企業(yè)都會有使用到。我們平日生產(chǎn)的時候都是由機器生產(chǎn)，那么大家知道目前的磁控鍍膜設(shè)備主要的濺射方式有哪幾種么？下面小編就來給大家講講磁控鍍膜設(shè)備的濺射方式。

磁控濺射鍍膜設(shè)備原理解析

主要的磁控濺射鍍膜設(shè)備可以根據(jù)其特征分為以下四種：（1）直流濺射；（2）射頻濺射；（3）磁控濺射；（4）反應(yīng)濺射.另外,利用各種離子束源也可以實現(xiàn)薄膜的濺射沉積.

現(xiàn)在的直流濺射（也叫二級濺射）較少用到,原因是濺射氣壓較高,電壓較高,濺射速率小,膜層不穩(wěn)定等缺點.

直流濺射發(fā)展后期,人們在其表面加上一定磁場,磁場束縛住自由電子后,以上缺點均有所改善,也是現(xiàn)階段廣泛應(yīng)用的一種濺射方法.

CCZK-SF磁控濺射鍍膜設(shè)備

而后又有中頻濺射,提高了陰極發(fā)電速率,不易造成放電、靶材等現(xiàn)象.

而射頻濺射是很高頻率下對靶材的濺射,不易放電、靶材可任選金屬或者陶瓷等材料.沉積的膜層致密,附著力良好.

如果尋找本質(zhì)區(qū)別是：直流濺射是氣體放電的前期,而射頻是后期,我們常見的射頻是電焊機.濺射過程所用設(shè)備的區(qū)別就是電源的區(qū)別.

以上就是主要的磁控濺射鍍膜設(shè)備的濺射方式，希望本文能夠讓用戶對設(shè)備更加了解。