曝光機(jī)是不是曬版機(jī)，有什么區(qū)別嗎？

曝光機(jī)也是曬版機(jī)，只是叫法不同。比如馬玲署俄羅斯叫土豆。原理也就是讓紫外線對(duì)涂有感光膠的網(wǎng)版，進(jìn)行曝光，當(dāng)然其間有菲林片。

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江蘇迪盛智能科技有限公司主力產(chǎn)品是數(shù)字化直接成像曝光機(jī)、物理氣相沉積真空鍍膜設(shè)備、新能源自動(dòng)化設(shè)備與感光油墨，三大主力產(chǎn)品已進(jìn)入量產(chǎn)，2018年將加大生產(chǎn)規(guī)模，增加市場占有率，歡迎新老客戶來電咨詢！

用于pcb工藝中的曝光工序，與傳統(tǒng)的底片接觸曝光方法有所不同

與傳統(tǒng)曝光的差別

1.傳統(tǒng)曝光是通過gong燈照射底片將圖像轉(zhuǎn)移至pcb上

2.LDI是用激光掃描的方法直接將圖像在pcb上成像，圖像更精細(xì)。

LDI機(jī)

LDI曝光速度的瓶頸因素包括：數(shù)據(jù)的儲(chǔ)存與傳送、鐳射能量、切換速度、多邊型的制作速度、光阻的感光度、鐳射頭移動(dòng)速度、電路板傳送作業(yè)模式等。

以基本的影響因素而言，有三個(gè)獨(dú)立的因子會(huì)影響曝光速率：

1、能量密度   2、數(shù)據(jù)調(diào)變的速度   3、機(jī)械機(jī)構(gòu)速度

光阻必須要有一定量的能量送到表面才能產(chǎn)生適當(dāng)?shù)钠毓?，而高敏度的光阻需要的能量相?duì)較低。因?yàn)榭偰芰康扔诠β食松蠒r(shí)間，高敏度的感光膜在同樣的功率下所需的曝光時(shí)間就比較短。而曝光系統(tǒng)的功能輸出，主要來自于系統(tǒng)的光源設(shè)計(jì)，所以這是能量與時(shí)間的關(guān)系與解析度無關(guān)。隨著方法的優(yōu)化，在40μm的抗蝕劑中生產(chǎn)35μm的精細(xì)線已成為可能。