什么是蒸發(fā)鍍膜？

蒸發(fā)鍍膜常稱真空鍍膜。

其特點是在真空條件下，材料蒸發(fā)并在玻璃表面上凝結(jié)成膜，再經(jīng)高溫熱處理后，在玻璃表面形成附著力很強的膜層。有70 多種元素、50 多種無機化合物材料和多種合金材料可供選擇。Parylene在傳感器領域中的應用，除了作絕緣介質(zhì)外，更多用作防護材料，它能耐酸、堿和溶劑，對水汽和鹽霧等惡劣環(huán)境有較好的阻隔防護能力，用極薄的涂層提供良好的防護。PVD工藝的首要條件是在真空條件下操作，因為限量以上的殘余氣體會影響膜的成分和性質(zhì)。為了實現(xiàn)鍍膜工藝，要求殘余氣體的壓力為0.1～1Pa。

ZF350有機無機聯(lián)合制備：采用3～4組蒸發(fā)源可兼容金屬、有機物蒸發(fā)?？販鼐取?℃，可以實現(xiàn)溫度或電流補償實現(xiàn)蒸鍍速率穩(wěn)定的功能4。廣泛應用于高校材料、物理、化學、電子、能源等相關學科以及科研院所制備高質(zhì)量功能薄膜、蒸鍍電極等，特別適合OPV/鈣鈦礦/無機薄膜太陽能電池、半導體、有機EL、OLED顯示研究與開發(fā)領域。

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鈣鈦礦鍍膜設備

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設備用途 ：

適用于制備金屬單質(zhì)薄膜、半導體薄膜、氧化物薄膜、有機薄膜等，可用于科研單位進行新材料、新工藝薄膜研究工作，也可用于大批量生產(chǎn)前的試驗工作。廣泛應用于有機、無機、鈣鈦礦薄膜太陽能電池、OLED等研究領域

設備組成：

該設備主要由沉積室、真空排氣系統(tǒng)、真空測量、蒸發(fā)源、樣品加熱、電控系統(tǒng)、等部分組成。

      1、鍍膜室：方形前后開門結(jié)構(gòu)，內(nèi)帶有防污板。

      2、真空度：鍍膜室的極限真空≤5×10-5Pa；

      3、蒸發(fā)源系統(tǒng)：有機源蒸發(fā)源4個，無機蒸發(fā)源2套

      4、樣品架系統(tǒng)：樣品大小為Φ150mm的樣品，旋轉(zhuǎn)速度為：0～30轉(zhuǎn)/分；

      5、樣品在鍍膜過程中，可烘烤加熱，加熱溫度為：室溫～190℃，測溫控溫。

      6、膜厚控制儀：測量范圍0-999999?

鈣鈦礦蒸發(fā)鍍膜機的特點

1、樣品位于真空室上方，蒸發(fā)源位于真空室下方，向上蒸發(fā)鍍膜，且蒸發(fā)源帶有擋板裝置。</span>

2、設有烘烤加熱功能，可在鍍膜過程中加熱樣品，烘烤加熱溫度可達180℃。

3、設有斷水、斷電連鎖保護報警裝置及防誤操作保護報警裝置。

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