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電鍍設計基本要求
隨著電鍍的在市場的廣泛應用,其電鍍也可以產(chǎn)品提高耐磨性、導電性、反光性、抗腐蝕性及增進美觀等作用。下面德鴻表面處理公司小編為大家介紹一下。
電鍍設計基本要求:
1. 基材蕞好采用ABS材料,ABS電鍍后覆膜的附著力較好,同時價格也比較低廉。
2. 塑件表面質(zhì)量一定要非常好,電鍍無法掩蓋注射的一些缺陷,而且通常會使得這些缺陷更明顯。
3. 在結構設計時也要關注外形要適合于電鍍處理:
1) 表面凸起蕞好控制在0.1~0.15mm/cm,盡量沒有尖銳的邊緣。
2) 如果有盲孔的設計,盲孔的深度蕞好不超過孔徑的一半,不要對孔的底部的色澤作要求。
3) 要采用適合的壁厚防止變形,蕞好在1.5mm以上4mm以下,如果需要作的很薄的話,要在相應的位置作加強的結構來保證電鍍的變形在可控的范圍內(nèi)。
4) 在設計中要考慮到電鍍工藝的需要,由于電鍍的工作條件一般在60度到70度的溫度范圍下,在吊掛的條件下,結構不合理,變形的產(chǎn)生難以避免,所以在塑件的設計中對水口的位置要作關注,同時要有合適的吊掛的位置,防止在吊掛時對有要求的表面帶來傷害,如上圖的設計,中間的方孔專門設計用來吊掛。
5) 另外蕞好不要在塑件中有金屬嵌件存在,由于兩者的膨脹系數(shù)不同,在溫度升高時,電鍍液體會滲到縫隙中,對塑件結構造成一定的影響。
4.在塑件的加工時,要關注到幾個問題,其一塑膠料在加工時要充分烘干,否則殘留的水分會對塑件表面造成氣孔、流線紋等缺陷,嚴重影響電鍍的效果,另外盡量避免使用脫模劑,因為脫模劑的使用會對電鍍膜的附著力產(chǎn)生影響。
鋁合金上電鍍的復雜原因
在鋁及鋁合金上電鍍比在鋼鐵、銅等金屬材料上電鍍要困難和復雜得多,其主要原因有 以下幾個方面:
①鋁及鋁合金對氧具有高度的親和力,極易生成氧化膜,并且這層氧化膜一經(jīng)除去又會在極短的時間里產(chǎn)生一層新的氧化膜,嚴重影響鍍層的結合力。
②鋁的電極電位為負,浸入電鍍液時容易與具有正電位的金屬離子發(fā)生置換,影響鍍層結合力。
③鋁及鋁合金的膨脹系數(shù)比其他金屬大,因此不宜在溫度變化較大的范圍內(nèi)進行電鍍。 鋁及鋁合金與其他金屬鍍層膨脹系數(shù)不同將引起較大的應力,從而使鍍層與鋁及鋁合金之間的結合力不牢。
④鋁金屬,能溶于酸和堿,在酸性和堿性電鍍液中都不穩(wěn)定。
⑤鋁合金壓鑄件有砂眼、氣孔,會殘留鍍液和氫氣,容易鼓泡,也會降低鍍層和基體金屬間的結合力。
為在鋁及鋁合金表面上得到結合力良好的電鍍層,應針對以上原因,在鍍前采取一定的前處理措施。除了常規(guī)的除油、浸蝕、出光外,還需要進行特殊的預處理,制取一層過渡金屬層或能導電的多孔性化學膜層,以保證隨后的電鍍層有良好的結合力。
目前常用的方法有兩種:先化學浸鋅,然后電鍍其他金屬;先進行陽極氧化處理,再電鍍其他金屬。
以上是德鴻表面處理公司小編為大家介紹的相關信息
5G智能化時代對電鍍技術的要求
德鴻表面處理公司為大家介紹5G智能化時代對電鍍技術的要求
隨著智能化時代的到來,電子產(chǎn)品越來越趨向輕量化和微型化,便攜式電子產(chǎn)品的應用也越來越廣泛,包括可穿戴電子產(chǎn)品和各種內(nèi)置芯片的微型產(chǎn)品。這也給現(xiàn)代制造業(yè)提出了許多新課題,從材料到表面處理等都需要有新的技術支持?,F(xiàn)如今,已經(jīng)是5G的互聯(lián)時代.時代的發(fā)展推動了我們的經(jīng)濟.
5G技術的發(fā)展推動了硬件發(fā)展,高頻高速和高集成化應用場景下的介質(zhì)材料金屬化、互連線路信號完整性,以及焊接可靠性等都對表面工程技術和電子電鍍技術有著越來越重要的影響。
電鍍仿1真技術帶來更高的成本效益如今,業(yè)界對工業(yè)產(chǎn)品的質(zhì)量要求越來越嚴苛,對新工藝的探索也越來越緊迫。然而,目前國內(nèi)電鍍產(chǎn)品在設計、研發(fā)與生產(chǎn)過程中面臨著普遍的技術難題。例如,在生產(chǎn)線的優(yōu)化設計、掛具設計、輔助工具(輔助陽極、輔助陰極和電場遮蔽)的使用,以及工藝參數(shù)的設置等方面,依舊依靠經(jīng)驗和試制來糾錯,這具有一定的盲目性,會造成了資源的極大浪費。
而電鍍仿1真軟件能大大緩解這些難題,它將計算機仿1真技術引入電鍍工藝、工裝和產(chǎn)品結構等各個階段設計之中。該技術已在歐洲和北美多國得到廣泛應用,并帶來顯著的經(jīng)濟效益。我國對該技術的應用仍有待發(fā)展。
電鍍清洗用水的水質(zhì)要求非常嚴格。工序、工位或鍍種不同,所采用的水質(zhì)也大不相同。工序用水一般應遵循以下原則:
(1) 前處理清洗用水對水質(zhì)要求不是很高,一般自來水(C 類水)即可滿足要求。
(2) 進鍍槽的道水洗采用純水(A類水),特別是化學鍍鎳前的清洗須采用純水洗。
因為一般自來水中含有過多的鈣、鎂離子或鐵離子,這些離子一旦被帶入鍍液,容易使鍍液產(chǎn)生沉淀;或帶入異金屬離子,使化學鍍鎳層發(fā)脆、發(fā)霧、起條紋等疵病。
(3) 從成本角度考慮,出鍍槽的一道水洗采用純水,這樣可以使?jié)舛容^高的一道清洗水實現(xiàn)回收再利用:當主槽中液體不足時,可以將該清洗水直接加入主槽,從而降低成本及重金屬的排放量。
(4) 表面處理完畢后的后一道清洗水,應符合HB 5472–1991《金屬鍍覆和化學覆蓋工藝用水水質(zhì)規(guī)范》中規(guī)定的清洗用水標準。
這樣清洗后的零件才不會留下水跡、斑點或影響鍍覆層質(zhì)量的雜質(zhì)。各鍍種的清洗用水,配液用水標準可參照 HB5472–1991 標準。
該標準對金屬鍍覆和化學覆蓋工藝用水的水質(zhì)分類和指標,水質(zhì)分析方法及工藝用水要求作了詳細規(guī)定。