拋光時(shí)，高速旋轉(zhuǎn)的拋光輪（圓周速度在20米/秒以上）壓向工件，使磨料對(duì)工件表面產(chǎn)生滾壓和微量切削，從而獲得光亮的加工表面，表面粗糙度一般可達(dá)Ra0.63～0.01微米;當(dāng)采用非油脂性的消光拋光劑時(shí)，可對(duì)光亮表面消光以改善外觀。 大批量生產(chǎn)軸承鋼球時(shí)，常采用滾筒拋光的方法。粗拋時(shí)將大量鋼球、石灰和磨料放在傾斜的罐狀滾筒中，滾筒轉(zhuǎn)動(dòng)時(shí)，使鋼球與磨料等在筒內(nèi)隨機(jī)地滾動(dòng)碰撞以達(dá)到去除表面凸鋒而減小表面粗糙度的目的，可去除0.01毫米左右的余量。

極氧化鋁板化學(xué)拋光中出現(xiàn)的缺陷及其糾正措施是在生產(chǎn)的發(fā)展過(guò)程中不斷總結(jié)完善的。白色附著物。該缺陷的形貌為化學(xué)拋光后的鋁材表面上附著有一層白色的沉積物，且分布不均勻，附著物底部的鋁材表面有可能被腐蝕。通常，該缺陷是因?yàn)榛瘜W(xué)拋光槽液中溶鋁量太高所致，如果化學(xué)拋光槽液的相對(duì)密度在1.80以上，可以得到進(jìn)一步證實(shí)。則需采取措施調(diào)整槽液中的溶鋁量到正常的范圍內(nèi)。

化學(xué)拋光：

可用于儀器制造、鋁型材鋁質(zhì)反光鏡的制造,以及其他零件和鍍層的裝飾性加工.同電解拋光比較,化學(xué)拋光的優(yōu)點(diǎn)是：不需外加電源,可以處理形狀更為復(fù)雜的零件,生產(chǎn)等.但是化學(xué)拋光的表面質(zhì)量,一般略低于電解拋光,溶液的調(diào)整和再生也比較困難,往往拋光過(guò)程中會(huì)析出氧化氮等有害氣體。其實(shí)這點(diǎn)現(xiàn)在的技術(shù)也已經(jīng)解決，市面上有如兩酸化學(xué)拋光高光光亮劑等拋光試劑，其不含，不會(huì)產(chǎn)生有危害的黃煙

氧化拋光液氧化拋光液是以微米或亞微米級(jí)CeO2為磨料的氧化研磨液，該研磨液具有分散性好、粒度細(xì)、粒度分布均勻、硬度適中等特點(diǎn)。適用于高精密光學(xué)儀器，光學(xué)鏡頭，微晶玻璃基板，晶體表面、集成電路光掩模等方面的精密拋光。氧化鋁和碳化硅拋光液是以超細(xì)氧化鋁和碳化硅微粉為磨料的拋光液，主要成分是微米或亞微米級(jí)的磨料。主要用于高精密光學(xué)儀器、硬盤基板、磁頭、陶瓷、光纖連接器等方面的研磨和拋光。