脈沖激光沉積機(jī)制

沈陽(yáng)鵬程真空技術(shù)有限責(zé)任公司專(zhuān)業(yè)生產(chǎn)、銷(xiāo)售脈沖激光沉積，我們?yōu)槟治鲈摦a(chǎn)品的以下信息。

PLD的系統(tǒng)設(shè)備簡(jiǎn)單，相反，它的原理卻是非常復(fù)雜的物理現(xiàn)象?！驹O(shè)備主要組成】設(shè)備由沉積腔室（單室球形或圓筒形）、樣品加熱轉(zhuǎn)臺(tái)、激光入射轉(zhuǎn)靶、激光窗、電源控制系統(tǒng)、激光束掃描系統(tǒng)、計(jì)算機(jī)控制轉(zhuǎn)靶的旋轉(zhuǎn)、脈沖準(zhǔn)分子激光器等組成。它涉及高能量脈沖輻射沖擊固體靶時(shí)，激光與物質(zhì)之間的所有物理相互作用，亦包括等離子羽狀物的形成，其后已熔化的物質(zhì)通過(guò)等離子羽狀物到達(dá)已加熱的基片表面的轉(zhuǎn)移，及膜的生成過(guò)程。所以，PLD一般可以分為以下四個(gè)階段：

1. 激光輻射與靶的相互作用

2. 熔化物質(zhì)的動(dòng)態(tài)

3. 熔化物質(zhì)在基片的沉積

4. 薄膜在基片表面的成核（nucleation）與生成。

脈沖激光沉積系統(tǒng)特點(diǎn)及優(yōu)勢(shì)

可根據(jù)客戶(hù)需求定制產(chǎn)品，靈活性高，并提供專(zhuān)業(yè)的技術(shù)支持；靶臺(tái)可以安裝6個(gè)靶位，靶材更換靈活；樣品臺(tái)樣品尺寸從10x10mm樣品到2英寸樣品均適用；進(jìn)樣室可以存儲(chǔ)多個(gè)靶和樣品；交易過(guò)程無(wú)需繁瑣的進(jìn)、出關(guān)手續(xù), 交貨期短，性?xún)r(jià)比高；

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脈沖激光沉積簡(jiǎn)介

沈陽(yáng)鵬程真空技術(shù)有限責(zé)任公司——專(zhuān)業(yè)脈沖激光沉積供應(yīng)商，我們?yōu)槟鷰?lái)以下信息。

【設(shè)備主要用途】

PLD450A型脈沖激光沉積設(shè)備采用PLD脈沖激光沉積技術(shù)，用于制備高溫超導(dǎo)薄膜、半導(dǎo)體膜、鐵電薄膜、硬質(zhì)薄膜以及微電子和光電子用多元氧化物薄膜及異質(zhì)結(jié)，也可用于制備氮、碳、硅化合物及各種有機(jī)—無(wú)機(jī)復(fù)合材料薄膜及金剛石薄膜等。

【設(shè)備優(yōu)點(diǎn)】

設(shè)備全程采用一鍵式操作抽氣，關(guān)機(jī)，程序自動(dòng)化定時(shí)操作。避免了繁瑣的角閥，插板閥人工開(kāi)啟。

【設(shè)備主要組成】

設(shè)備由沉積腔室（單室球形或圓筒形）、樣品加熱轉(zhuǎn)臺(tái)、激光入射轉(zhuǎn)靶、激光窗、電源控制系統(tǒng)、激光束掃描系統(tǒng)、計(jì)算機(jī)控制轉(zhuǎn)靶的旋轉(zhuǎn)、脈沖準(zhǔn)分子激光器等組成

脈沖激光沉積系統(tǒng)的配置介紹

1.靶: 數(shù)量6個(gè)，大小1-2英寸，被激光照射時(shí)可自動(dòng)旋轉(zhuǎn)，靶的選擇可通過(guò)步進(jìn)電機(jī)控制;

2.基板:采用適合于氧氣環(huán)境鉑金加熱片，大小2英寸，加熱溫度可達(dá)1200攝氏度，溫度差<3%，加熱時(shí)基板可旋轉(zhuǎn)，工作環(huán)境的壓力可達(dá)300mtorr;

3.基板加熱電源，高到1200度;

4.超高真空成膜室腔體:不銹鋼sus304材質(zhì)，內(nèi)表面電解拋光，本底真空度<5e-8 pa;

5.樣品搬運(yùn)室:不銹鋼sus304材質(zhì)，內(nèi)表面電解拋光，本底真空度<5e-5 pa;

6.排氣系統(tǒng):分子泵和干式機(jī)械泵;

7.閥門(mén): 采用超高真空擋板閥;

8.真空檢測(cè):真空計(jì);

9.氣路兩套: 采用氣體流量計(jì)控制;

10.薄膜生長(zhǎng)監(jiān)控系統(tǒng): 采用掃描型差分RHEED;

11.監(jiān)控系統(tǒng):基板溫度的監(jiān)控和設(shè)定，基板和靶的旋轉(zhuǎn)，靶的更換等;

12.各種電流導(dǎo)入及測(cè)溫端子;

13.其它各種構(gòu)造:各種超高真空位移臺(tái)，磁力傳輸桿，超高真空法蘭，超高真空密封墊圈，超高真空用波紋管等;