PLD450型脈沖激光鍍膜介紹

沈陽(yáng)鵬程真空技術(shù)有限責(zé)任公司——專業(yè)脈沖激光沉積供應(yīng)商，我們?yōu)槟鷰?lái)以下信息。

主要用途：　　

用于制備超導(dǎo)薄膜、半導(dǎo)體薄膜、鐵電薄膜、超硬薄膜等。適用于各大專院校、科研院所進(jìn)行薄膜材料的科研與小批量制備?！　?

系統(tǒng)組成:　　

主要由濺射真空室、旋轉(zhuǎn)靶臺(tái)、基片加熱臺(tái)、工作氣路、抽氣系統(tǒng)、安裝機(jī)臺(tái)、真空測(cè)量及電控系統(tǒng)等部分組成?！　?

脈沖激光沉積介紹

脈沖激光沉積也被稱為脈沖激光燒蝕（pulsed laser ablation，PLA），是一種利用激光對(duì)物體進(jìn)行轟擊，然后將轟擊出來(lái)的物質(zhì)沉淀在不同的襯底上，得到沉淀或者薄膜的一種手段。

以上就是為大家介紹的全部?jī)?nèi)容，希望對(duì)大家有所幫助。如果您想要了解更多脈沖激光沉積的知識(shí)，歡迎撥打圖片上的熱線聯(lián)系我們。

脈沖激光沉積，是一種用途廣泛的薄膜沉積技術(shù)。脈沖激光快速蒸發(fā)靶材，生成與靶材組成相同的薄膜。PLD 的獨(dú)特之處是能量源（脈沖激光）位于真空室的外面。如需了解更多脈沖激光沉積的相關(guān)信息，歡迎關(guān)注沈陽(yáng)鵬程真空技術(shù)有限責(zé)任公司網(wǎng)站或撥打圖片上的熱點(diǎn)電話，我司會(huì)為您提供專業(yè)、周到的服務(wù)。這樣，在材料合成時(shí)，工作壓力的動(dòng)態(tài)范圍很寬，達(dá)到10-10 Torr ~ 100 Torr。通過(guò)控制鍍膜壓力和溫度，可以合成一系列具有獨(dú)特功能的納米結(jié)構(gòu)和納米顆粒。

另外，PLD 是一種“數(shù)字”技術(shù)，在納米尺度上進(jìn)行工藝控制（A°/pulse）。

沈陽(yáng)鵬程真空技術(shù)有限責(zé)任公司以誠(chéng)信為首 ,服務(wù)至上為宗旨。公司生產(chǎn)、銷售脈沖激光沉積,公司擁有強(qiáng)大的銷售團(tuán)隊(duì)和經(jīng)營(yíng)理念。想要了解更多信息，趕快撥打圖片上的熱線電話！