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全自動磁控濺射沉積系統(tǒng)報價信賴推薦

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發(fā)布時間:2020-11-12 08:20  






小型自動磁控濺射儀

沈陽鵬程真空技術有限責任公司——專業(yè)磁控濺射產(chǎn)品供應商,我們?yōu)槟鷰硪韵滦畔ⅰ?

1. 濺射室極限真空度:≤6.6×10-6 Pa

2. 系統(tǒng)真空檢漏漏率:≤5.0×10-7Pa.l/S

3. 系統(tǒng)從大氣開始抽氣:濺射室30分鐘可達到6.6×10-4 Pa;

4. 系統(tǒng)停泵關機12小時后真空度:≤5Pa

5. 濺射真空室1套,立式上開蓋結構,尺寸不小于Ф300mm×300mm,全不銹鋼結構,弧焊接,表面進行電化學拋光,內(nèi)含防污內(nèi)襯,可內(nèi)烘烤到100~150℃,接口采用金屬墊圈密封或氟橡膠圈密封,腔體內(nèi)有照明系統(tǒng)

6. 磁控濺射系統(tǒng) 3套, 提供3塊測試靶材。鍍膜不均勻度≤5%

7. 旋轉基片臺 1套,樣品臺可放置不小于100mm樣品1片,具有連續(xù)旋轉功能,旋轉0—30轉/分連續(xù)可調?;訜釡囟龋菏覝亍?00°C連續(xù)可調,由熱電偶閉環(huán)反饋控制,加熱電源配備控溫表,控溫方式為PID自動控溫及數(shù)字顯示

8. 觀察窗口及法蘭接口部件 1套

9. 工作氣路1套,包含:100SCCM、20SCCM質量流量控制器、CF16截止閥、管路、接頭等共2路; DN16充氣閥、管路、接頭等2路;

10. 抽氣機組及閥門、管道 1套,包含1臺進口復合分子泵及變頻控制電源(680L/s ,德國普發(fā)Hipace700分子泵);基片加熱溫度:室溫—500°C連續(xù)可調,由熱電偶閉環(huán)反饋控制,加熱電源配備控溫表,控溫方式為PID自動控溫及數(shù)字顯示8。1臺機械泵(4L/S) ,1臺DN40氣動截止閥,機械泵與真空室之間的旁抽管路1套,CC150氣動閘板閥1臺(用于復合分子泵與真空室隔離),節(jié)流閥1臺,DN40旁抽氣閥1臺,壓差式充氣閥1臺;管道采用不銹鋼三通及波紋管,

11. 安裝機臺架組件 1套,由方鋼型材焊接成,快卸圍板表面噴塑處理,機臺表面用不銹鋼蒙皮裝飾,四只腳輪,可固定,可移動。



磁控濺射鍍膜設備的主要用途

1.各種功能性的薄膜鍍膜。所鍍的膜一般能夠吸收、透射、反射、折射、偏光等效果。

2.時裝裝飾領域的應用,比如說各種全反射鍍膜以及半透明鍍膜,可適用在手機外殼、鼠標等產(chǎn)品上。

3.微電子行業(yè)領域中,其是一種非熱式鍍膜技術,主要應用在化學氣象沉積上。

4.在光學領域中用途巨大,比如說光學薄膜(如增透膜)、低輻射玻 璃和透明導電玻璃等方面得到應用。

5.在機械行業(yè)加工中,其表面功能膜、超硬膜等等。其作用能夠提供物品表面硬度從而提高化學穩(wěn)定性能,能夠延長物品使用周期。



【磁控濺射鍍膜設備】使用注意事項

以下是沈陽鵬程真空技術有限責任公司為您一起分享的內(nèi)容,沈陽鵬程真空技術有限責任公司專業(yè)生產(chǎn)磁控濺射產(chǎn)品,歡迎新老客戶蒞臨。

磁控濺射鍍膜設備是目前一種鍍膜產(chǎn)品,相比傳統(tǒng)的水電鍍來講,磁控濺射鍍膜設備無毒性,能夠掩蓋,彌補多種水電鍍的缺陷。

近年來磁控濺射鍍膜設備技術得到了廣泛的應用,現(xiàn)國內(nèi)磁控濺射鍍膜設備廠家大大小小的也非常多,但是專注于磁控濺射鍍膜設備生產(chǎn),

經(jīng)驗豐富的卻造磁控濺射鍍膜設備廠家,就一定會有一定的規(guī)模,這類磁控濺射鍍膜設備不像是小件的東西,

磁控濺射鍍膜設備其技術含量非常的高,選購磁控濺射鍍膜設備時一定要先了解。

磁控濺射鍍膜設備技術含量高,那么就一定要擁有一個非常強大的磁控濺射鍍膜設備技術工程隊伍,

磁控濺射鍍膜設備行業(yè)資深的專家,磁控濺射鍍膜設備可根據(jù)用戶的產(chǎn)品工藝及物殊要求設計配置。



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