電子束蒸發(fā)鍍膜的優(yōu)勢(shì)

電子束蒸發(fā)的優(yōu)點(diǎn)在于：電子束的光斑可以隨意調(diào)整，可以一槍多用，燈絲可以隱藏，避免污染，可以蒸發(fā)任意鍍膜材料，維修方便，蒸發(fā)速度可以隨意控制，材料分解小，膜密度高。機(jī)械強(qiáng)度好。

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電子束鍍膜的濺射方式

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濺射方式是用高速正離子轟擊靶材表面，通過動(dòng)能傳輸，令靶材的分子（原子）有足夠的能量從靶材表面逸出，在產(chǎn)品表面凝聚形成薄膜。

用濺射的方法制鍍的薄膜附著性強(qiáng)，薄膜的純度高，可以同時(shí)濺射多種不同成分的材料，但是對(duì)靶材的要求高，不能象電子槍一樣節(jié)約資源。

目前運(yùn)用較多的有磁控濺射，磁控濺射是指平行于陰極表面施加強(qiáng)電場(chǎng)，將電子約束在陰極靶材表面附近，提高電離效率。它是操作比較簡(jiǎn)單的一種，所以運(yùn)用非常廣。